产品型号
MU100HE-厂商性质
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2026-09-11浏览次数
52产品描述
KASHIYAMA樫山MU100HE小型耐蚀干式真空泵最大抽速 1660L/min，极限真空 3.0Pa，水冷结构。MU100HE 搭载热氮气吹扫功能，有效抑制水汽、工艺粉尘与反应副产物沉积，提升泵体耐蚀性能；无油干式结构不会产生碳氢油污污染，整机小巧低功耗，常作为小型分子泵配套前级真空泵，适合半导体小型刻蚀、带轻度水汽卤素的晶圆锁仓、MEMS 腐蚀工艺等场景。
产品型号
MU100PE-厂商性质
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2026-09-11浏览次数
57产品描述
KASHIYAMA樫山MU100PE小型节能干式真空泵最大抽速 1660L/min，极限真空 3.0Pa，水冷结构。MU100PE 为标准轻载机型，机身小巧紧凑，支持选配氮气吹扫，抑制工艺粉尘、水汽副产物沉积；无油结构无碳氢油污污染，整机功耗低，常作为小型分子泵配套前级真空泵，适合半导体小型晶圆锁仓、分析仪器、轻载薄膜工艺等洁净真空场景。
产品型号
MU-PE/HE系列-厂商性质
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47产品描述
KASHIYAMA 樫山MU-PE/HE系列节能干式真空泵适配从轻负荷锁仓到中等刻蚀多种半导体工艺，作为分子泵配套前级真空泵，广泛应用于半导体、FPD 平板显示、MEMS、分析仪器等真空场景。
产品型号
MUH3000-厂商性质
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46产品描述
KASHIYAMA 樫山 MUH3000大流量干式真空泵最大抽速 50000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MUH3000 为大流量高耐久机型，可搭配氮气吹扫，抑制水汽、粉尘类工艺副产物沉积；无油结构杜绝碳氢油污污染，变频驱动能耗控制优异，在大抽速下保持紧凑机身，常作为超大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体大容量晶圆锁仓、PVD、灰化、中轻度腐蚀薄膜沉积等高容量量产工艺。
产品型号
MUP1800E-厂商性质
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52产品描述
KASHIYAMA樫山MUP1800E大容量工艺真空泵最大抽速 30000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MUP1800E 为半导体重载工艺型真空泵，配置氮气吹扫结构，有效降低水汽、粉尘类工艺副产物沉积；无油结构不存在碳氢油污污染，整机能耗低，机身紧凑，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体 PVD 溅射、灰化、多晶硅刻蚀、大容量晶圆锁仓等中载量产工艺。
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