简要描述：KASHIYAMA 樫山 MUH3000大流量干式真空泵最大抽速 50000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MUH3000 为大流量高耐久机型，可搭配氮气吹扫，抑制水汽、粉尘类工艺副产物沉积；无油结构杜绝碳氢油污污染，变频驱动能耗控制优异，在大抽速下保持紧凑机身，常作为超大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体大容量晶圆锁仓、PVD、灰化、中轻度腐蚀薄膜沉积等高容量量产工艺。

产品简介：MU 系列为日本 KASHIYAMA 樫山工业水冷式无油干式真空泵，主打小型化、超低能耗设计，机身体积相比同级别泵缩小约 35%。包含 X 标准版、GX 耐蚀款、PE/HE 轻载机型，可搭配氮气吹扫，适配从轻负荷锁仓到蚀刻等半导体工艺，常作为分子泵前级真空泵，广泛用于半导体、平板显示、MEMS、分析仪器等真空场景。

产品特点

1. 紧凑机身，同抽速下整机占地更小，方便直接集成在半导体设备机台内，节省产线空间。

2. 超低功耗节能设计，专用转子 + 同步变频电机，量产工况耗电低，长期使用降低运营成本。

3. 多版本可选，X/GX 耐蚀款具备特殊腔体表面处理，可应对工艺粉尘、轻度卤素水汽；标准版适合洁净工艺。

4. 无油干式真空结构，真空通路无润滑油，杜绝返油污染，保障晶圆腔体洁净。

5. 搭载压力、温度、缺水监测及故障报警，支持自动化信号输出，满足 SEMI、CE 安全规范。

适用范围

半导体 Load-Lock 晶圆锁仓、CVD、PECVD 薄膜沉积；SEM 分析仪器、MEMS 微加工；光伏、FPD 平板显示真空腔体；洁净及轻度腐蚀工业真空制程。

标准配件

干泵主机；可选配件：控制器、氮气吹扫组件、报警采集模块、原厂维修备件包。
KASHIYAMA 樫山 MUH3000大流量干式真空泵KASHIYAMA 樫山 MUH3000大流量干式真空泵
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