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| 品牌 | ULVAC/日本爱发科 | 价格区间 | 2万-3万 |
|---|---|---|---|
| 仪器种类 | 真空泵 | 产品类型 | 无油泵 |
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 医疗卫生,化工,生物产业,电子/电池,半导体 |
ULVAC爱发科HR1200多级罗茨高温干式真空泵ULVAC爱发科HR1200多级罗茨高温干式真空泵
泵体全域高温恒温,长效抑制结晶堵塞
整机腔体维持稳定高温区间,工艺产生的卤化物、升华粉末全程保持气态排出,避免转子、泵壳内壁结垢卡泵,大幅延长连续量产周期,降低停机拆机清垢频次。
耐蚀密闭屏蔽电机结构
转子、泵腔壳体采用专项耐蚀表面处理,耐受氟、氯类腐蚀性工艺气体;搭载屏蔽电机 + 轴封氮气 / 氦气密封吹扫,阻挡腐蚀性介质侵入轴承与电机内部。
产线级断电防护与智能通讯
内置 1000ms 瞬时停电保护,抵御电网短时波动,防止工艺废气回流损坏泵体;支持工业通讯协议,可远程采集运行电流、腔体温度、故障告警日志,适配工厂自动化集中管控。
干式无油洁净抽气
真空压缩腔体不含润滑油,杜绝油蒸汽返流污染晶圆、光学基板,满足半导体、显示面板高洁净工艺标准。
大流量多级罗茨稳压抽气
容积式多级压缩结构,中低真空区间抽速稳定;适配大型腔体动态压力波动工况,适合高产能连续制造产线。
运行注意:建议在 200Pa 以下工况持续运行。
泛半导体晶圆制造:12 寸量产线大型干法刻蚀、大容量 CVD/ALD 设备、批量等离子灰化去胶前级真空抽气;
显示面板行业:8.5 代及以上大尺寸 OLED/LCD 面板刻蚀、薄膜沉积工艺废气抽取;
新能源与特种真空制程:存在大量可凝升华物、微量卤素腐蚀气体的大型真空工艺;
中试科研平台:半导体工艺中试线、超大腔体真空试验系统配套。
HR1200:高温工艺款,自带腔体加热防结晶结构,适配带腐蚀、易产生升华沉积物的重负载半导体量产工况;
LR1200:常温洁净罗茨干泵,无高温加热结构,仅适合无尘、无冷凝副产物的洁净真空场景;
MS/LS 螺杆系列:螺杆结构擅长普通粉尘排出,无高温均热设计,不适合大量升华型工艺副产物工况;
HR60/HR90/HR300/HR600:小、中、中大抽速档位,HR1200 面向超大腔体、高产能产线选型。