DIC 迪爱生 eFLOW 1AC-P201 超纯水防静电装置技术介绍

eFLOW 1AC-P201 属于 DIC 迪爱生 eFLOW C 系列柜式超纯水防静电装置，依托迪爱生自研 SEPAREL 中空纤维透气膜技术打造，面向小流量半导体湿法清洗工艺设计，适配 1~16L/min 流量工况，多用于独立式清洗设备、研发实验清洗机、小型单片清洗机，是区别于 AP 面板嵌入式机型的独立机柜款电阻率调控、流体静电抑制设备。型号编码中 1 代表单模组配置，AC 代表一体化机柜式结构，P201 为标准管路配置规格，整机集成度高，到货后可直接接入管路投产。

18.2MΩ・cm 超纯水拥有绝缘性能，水流高速撞击晶圆、掩膜、光学基板以及 PFA 管路内壁时极易持续累积静电。静电会造成两大典型生产缺陷：静电吸附空气中微颗粒，引发基板表面颗粒不良；瞬时静电放电击穿芯片微细线路、光刻图形，造成元器件性损毁。传统防静电方案依靠添加化学药剂，容易造成水质污染，同时电阻率稳定性较差、维护频繁。eFLOW 系列采用纯物理气液交换工艺，全程无需化学药剂添加，从流体源头抑制静电产生，契合半导体行业高洁净生产规范。

设备内置 1 组 PF-001L-NA 原厂 CO₂溶解模组，依靠中空纤维膜实现气液渗透交换。超纯水通入中空纤维内腔，高纯二氧化碳由膜外侧透过膜壁溶解进入水体，二氧化碳电离生成微量导电离子，形成碳酸饱和纯水。设备通过内部精密分配管路，动态调节碳酸饱和纯水与主管道超纯水混合比例，持续稳定调控出水电阻率，调节区间覆盖 0.1～15MΩ・cm。整套气液交换流程在密闭洁净模组内部完成，不会引入杂质污染超纯水，同时可同步脱除水体内部溶解气体，减少清洗工序气泡残留，改善基板水印、针孔、表面斑点等清洗缺陷。

eFLOW 1AC-P201 标准处理流量区间 1～16L/min，和 1AP-B02 流量区间保持一致，二者核心差异为安装形式。1AP 机型为 19 英寸 EIA 面板嵌入式，嵌入设备机柜；1AC-P201 为独立一体化机柜结构，内置电阻率传感器、控制单元、管路框架，无需占用清洗设备内部安装空间，适合不方便改造设备机柜、实验产线、改造项目场景。设备所有接液零部件采用高纯洁净耐腐蚀材质，匹配无尘车间使用环境；单模组结构响应迅速，在常规流量波动工况下维持电阻率稳定输出，流体通道经过优化，压力损失控制优异，不会加重前端超纯水输送系统负荷。

整机内部无复杂运动零部件，结构稳定可靠，故障率低，日常运维工作量少。运行仅需外接高纯二氧化碳气源，无需持续投加化学品，杜绝水质二次污染。原厂 SEPAREL 二氧化碳溶解模组使用寿命长久，提供长期质保，有效降低产线长期运营成本。

广泛应用于 8 英寸晶圆单片清洗、光刻掩模版清洗、实验室基板清洗、晶圆切割后喷淋清洗、小型显示基板湿法擦洗等小流量工艺场景。对于不方便集成面板式装置的改造产线、研发实验清洗设备，优先选用 eFLOW 1AC-P201，解决纯水静电带来的颗粒吸附、元器件静电损伤问题。

【产品核心参数】产品型号：eFLOW 1AC-P201处理流量：1～16L/min电阻率调控范围：0.1～15MΩ・cm内置模组：PF-001L-NA ×1 组安装方式：独立一体化机柜式液体接口：Rc3/4CO₂气体接口：Rc1/4适用水温：20～30℃工作水压：0.1～0.3MPaCO₂供气压力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原厂 SEPAREL 中空纤维气液透过模组