DIC 迪爱生 eFLOW 2AC-P201 超纯水防静电装置技术介绍

eFLOW 2AC-P201 属于 DIC 迪爱生 eFLOW C 系列独立柜式超纯水防静电装置，依托迪爱生自研 SEPAREL 中空纤维透气膜技术打造，面向中流量半导体湿法清洗工艺开发，适配 5～30L/min 流量工况，多用于产线改造项目、独立大型清洗设备、多条清洗支路共用供水场景。型号编码中 2 代表双模组配置，AC 代表一体化独立机柜结构，P201 为标准化洁净管路配置规格。与 2AP-B01 面板嵌入式机型流量规格一致，二者核心差异为安装形态，2AC-P201 整机集成控制系统、传感单元与管路框架，无需嵌入设备机柜，落地即可接入管路运行。

18.2MΩ・cm 超纯水绝缘性能，水流高速冲击晶圆、掩膜板、光学基板以及 PFA 管路内壁过程中极易持续积聚静电。静电会引发两类典型生产不良：静电吸附环境微粒子，造成基板表面颗粒污染；瞬时静电放电击穿芯片微细线路、光刻图案，造成元器件性损坏。传统防静电方式多依靠添加化学药剂，极易造成超纯水二次污染，电阻率控制稳定性差、维护频次高。eFLOW 系列采用纯物理气液交换工艺，全程不添加任何化学试剂，从流体源头抑制静电产生，满足半导体无尘车间严苛的高洁净规范。

设备内置 2 组 PF-001L-ND2 原厂 CO₂溶解模组，依靠中空纤维膜实现气液渗透交换。超纯水通入中空纤维内腔，高纯二氧化碳由膜外侧透过膜壁溶解进入水体，二氧化碳电离产生微量导电离子，生成碳酸饱和纯水。设备通过内部精密分配管路系统，动态调节碳酸饱和纯水与主管道超纯水混合比例，持续稳定调控出水电阻率，调节区间覆盖 0.1～15MΩ・cm。整套气液交换流程在密闭洁净模组内部完成，不会引入杂质污染水体；同时可同步脱除水中溶解气体，减少清洗过程气泡残留，改善基板水印、针孔、表面斑点等清洗缺陷。

eFLOW 2AC-P201 标准处理流量区间 5～30L/min，承接 1AC-P201 小流量机型上限，匹配中型单片清洗设备、连续喷淋清洗设备工况。整机为独立落地一体化机柜结构，自带底座调节脚，无需占用清洗设备内部安装空间，针对老旧产线改造、设备内部无预留安装空间的项目具备突出优势。设备全部接液零部件选用高纯洁净耐腐蚀材质，适配半导体无尘车间生产环境；双模组并行运行结构，进水流量波动工况下依旧维持电阻率稳定输出，流体通道经过优化，压力损失控制优异，不会加重前端超纯水输送系统负荷。

整机内部无复杂运动构件，结构稳定可靠，故障发生率低，日常运维工作量少。运行仅需外接高纯二氧化碳气源，无需持续投加化学品，杜绝水质二次污染。原厂 SEPAREL 二氧化碳溶解模组使用寿命长久，提供长期质保，有效降低产线长期运营成本。

广泛应用于 8/12 英寸晶圆湿法清洗、光刻掩模版清洗、晶圆切割后喷淋清洗、显示面板湿法擦洗、光伏电池片连续清洗等中流量工艺场景。当产线不方便改造设备机柜、多条清洗腔体集中供水、新项目布局独立流体单元时，优先选用 eFLOW 2AC-P201，解决纯水静电带来的颗粒吸附、元器件静电损伤问题。

【产品核心参数】产品型号：eFLOW 2AC-P201处理流量：5～30L/min电阻率调控范围：0.1～15MΩ・cm内置模组：PF-001L-ND2 ×2 组安装方式：独立一体化落地机柜式液体接口：Rc1"CO₂气体接口：Rc1/4适用水温：20～30℃（允许区间 10～40℃，禁止结冰）工作水压：0.1～0.3MPa，瞬时耐压 0.5MPaCO₂供气压力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原厂 SEPAREL 中空纤维气液透过模组