简要描述：ULVAC爱发科HR90多级罗茨式高温干式真空泵
一、产品概述
HR90 属于 ULVAC HR 系列中型高温防腐多级罗茨干式真空泵，定位介于 HR60 与 HR300 之间，无油干式结构，搭载泵腔全域恒温均热系统。专门针对半导体刻蚀、CVD、ALD、等离子灰化工艺，这类工况会产生升华性副产物、卤素类轻度腐蚀气体；依靠高温腔体避免工艺介质冷凝结晶堵泵，广泛用作 6/8 寸晶圆设备中型腔体前级

二、核心产品特点

1. 泵腔高温均热，防止副产物凝结堵塞

   整机腔体维持稳定高温区间，让工艺产生的升华粉末、卤化物副产物保持气态直接排出，有效避免内壁结晶沉积、转子卡滞，大幅延长连续生产维护周期。

2. 优异耐腐蚀结构设计

   泵腔转子、壳体等核心零部件采用特殊耐蚀表面处理，耐受氟化物、氯化物等轻度腐蚀性工艺气体；配备屏蔽电机 + 氦气轴封密封结构，阻挡腐蚀性气体侵入电机内部。

3. 瞬态断电保护，适配半导体产线需求

   内置 1000ms 瞬时停电应对机制，突发断电时阻挡工艺废气回流，保护泵体不受腐蚀损伤；支持通讯接口，可远程读取运行参数、故障告警记录，方便产线集中监控管理。

4. 洁净无油干式真空结构

   真空压缩腔体不含润滑油，不存在油蒸汽返流污染晶圆、光学器件，满足半导体工艺洁净标准。

5. 多级罗茨容积式稳定抽气

   多级罗茨压缩结构，在中低压区间保持稳定抽速，能够从大气压连续运行限真空，适配半导体工艺动态压力波动工况。

三、详细性能参数

四、典型应用场景

1. 泛半导体行业：中型干法刻蚀设备、CVD 化学气相沉积、ALD 原子层沉积、等离子灰化设备前级真空泵；

2. 显示与光电产业：面板刻蚀、薄膜沉积工艺真空排气；

3. 科研领域：实验室中型研发型刻蚀、薄膜沉积真空设备配套；

4. 特种真空工艺：存在可凝升华物、微量卤素腐蚀气体的工业真空制程。

五、选型区分对照

• HR90：高温工艺款，腔体恒温防凝堵，适配刻蚀、CVD 等产生升华副产物、腐蚀性气体的半导体工艺；

• LR90：常温洁净罗茨干泵，无高温加热功能，适合无尘、无冷凝副产物的洁净工况；

• MS120A：螺杆式工艺干泵，优势为排粉尘，无高温均热结构，不适合大量易冷凝升华物工况；

• HR60：小型高温干泵，抽速更小，适配小型工艺腔体；HR90 适配中等腔体产能。

六、可选配套配件