日本原装 EV‑M 系列干式真空泵全新到货｜现货库存直发

EBARA 荏原 EV‑M 系列重载耐腐多级罗茨干式真空泵全新入库，整机日本生产，现货库存充足，能够快速响应半导体产线各类项目订单，解决进口设备订货周期漫长造成的产线排期受阻问题，面向高副产物、强腐蚀半导体重负载工艺打造的主力真空设备。

EV‑M 系列专为严苛重负载制程研发，采用全无油多级罗茨结构，泵腔不使用润滑油，标配水冷散热以及泵体分区伴热温控系统，依靠高温控温技术抑制工艺副产物冷凝堆积，适配含有卤素、硅化物、金属有机源等腐蚀性气体工况。区别于风冷机型，水冷结构保障设备在连续高负荷排气条件下稳定运行，从源头杜绝油雾返流污染工艺腔体，满足半导体量产产线对真空洁净度的硬性标准。

内部转子采用非接触式运转设计，运动部件无直接摩擦，能够耐受大量粉尘类工艺副产物，大幅降低泵腔卡滞风险。对比传统干泵，在处理强腐蚀介质工况下维护周期更长，减少产线非计划停机频次。系列覆盖多段抽速规格，从小型腔体到大流量量产产线均有对应机型，整机柜体化设计，落地摆放即可投入使用，适配工厂设备间标准化布局。

设备搭载智能转速控制系统，支持怠速节能模式，低负载工况自动调节转速，有效降低整体能耗。50Hz 与 60Hz 工况下可保持一致抽气性能，适配国内半导体工厂供电条件。配备触摸屏操作面板，可实时查看温度、压力、运行负载等状态信息，具备过载保护、超温报警、故障历史记录、远程信号输出功能，可对接工厂 MES 系统实现产线集中监控。机型标准配置耐腐蚀材质，还可选配特氟龙强化防腐版本，进一步提升耐化学腐蚀能力，符合 SEMI‑S2、CE 工业安全相关标准。

广泛应用于半导体干法刻蚀、LPCVD、PECVD、HDP‑CVD、ALD、MOCVD、第三代半导体外延工艺，同时适配面板、光伏电池制造产线，也可用于大型科研真空反应腔体，可直接替换老旧重载干式真空泵，提升产线运行稳定性，降低设备整体使用成本。

本次到货全部为日本原装全新整机，整机性能一致性稳定，现货可支持样机验证、产线设备配套、批量项目采购，缩短客户项目等待周期。

1、日本原装整机进口，专为半导体重腐蚀高负载工艺设计2、现货库存直发，缩短进口设备交付周期3、全无油多级罗茨结构，伴热温控抑制副产物堆积4、水冷散热方案，适配 7×24 小时连续量产运行5、智能变频节能，标配防腐材质，可选强化防腐配置6、完备状态监控与报警输出，适配工厂自动化系统对接