简要描述：ULVAC 爱发科HR60多级罗茨式高温干式真空泵
一、产品概述
HR60 属于 ULVAC HR 系列高温防腐型多级罗茨干式真空泵，无油干式结构，核心特色为泵腔全域高温均热设计，专门面向半导体刻蚀、CVD、ALD、灰化等工艺。这类制程会产生升华性副产物、卤素类轻微腐蚀气体，高温腔体能够防止工艺介质冷凝结垢堵泵；区别于 LS 洁净螺杆泵、MS 工艺螺杆泵，HR 系列主打恒温防凝工艺场景，多用于

二、核心产品特点

1. 高温全域均热，杜绝副产物冷凝

   依靠泵体压缩热实现腔体均匀高温，使升华性工艺副产物维持气态排出，避免粉尘、沉积物附着转子，大幅降低泵腔堵塞、转子卡死风险，适配 CVD、干法刻蚀典型工况。

2. 优异耐腐蚀结构设计

   泵腔核心零部件采用特殊耐蚀表面处理，耐受氟化物、氯化物等轻度腐蚀性工艺气体；标配氦气轴封密封结构，有效防止工艺气体向内侵蚀电机部件。

3. 完备工艺安全保护

   内置 1000ms 瞬时停电应对机制，突发断电时保护泵体不受工艺气体回流损伤；支持远程通讯，可实时读取运行状态、故障告警记录，便于产线集中监控。

4. 无油洁净真空输出

   真空压缩腔不含润滑油，不存在油蒸汽返流污染晶圆、器件，满足半导体工艺洁净要求。

5. 多级罗茨稳定抽气特性

   多级容积式压缩结构，在中低压区间维持稳定抽速，能够从大气压连续运行限真空，适配半导体工艺动态压力波动工况。

三、详细性能参数

四、典型应用场景

1. 泛半导体行业：干法刻蚀设备、CVD 化学气相沉积、ALD 原子层沉积、等离子灰化设备前级真空泵；

2. 科研半导体设备：实验室研发型刻蚀、薄膜沉积小型真空设备；

3. 精密真空工艺：存在可凝升华物、微量腐蚀性气体的特种真空制程排气。

五、HR60 与 LR60、MS120A 选型区分

• HR60：高温工艺款，带腔体均热功能，防止副产物冷凝，适合 CVD、刻蚀等产生升华物、腐蚀气体的半导体工艺；

• LR60：洁净常温罗茨干泵，无高温加热，适合无尘、无冷凝副产物的洁净工况；

• MS120A：螺杆式工艺干泵，侧重排粉尘，无高温均热结构，不适合大量易冷凝升华物工况。

六、可选配套配件