产品型号
MUP1800E-厂商性质
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53产品描述
KASHIYAMA樫山MUP1800E大容量工艺真空泵最大抽速 30000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MUP1800E 为半导体重载工艺型真空泵，配置氮气吹扫结构，有效降低水汽、粉尘类工艺副产物沉积；无油结构不存在碳氢油污污染，整机能耗低，机身紧凑，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体 PVD 溅射、灰化、多晶硅刻蚀、大容量晶圆锁仓等中载量产工艺。
产品型号
MUP1200E-厂商性质
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49产品描述
KASHIYAMA 樫山 MUP1200E 大抽速工艺真空泵最大抽速 19000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MUP1200E 为中载工艺型真空泵，配置 0~60SLM 可调氮气吹扫，抑制工艺粉尘、水汽等副产物沉积；无油结构无碳氢污染，整机功耗低，机身紧凑，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体 PVD 溅射、灰化、氧化物刻蚀、大容量晶圆锁仓等中载量产工艺。
产品型号
MUP600E-厂商性质
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46产品描述
KASHIYAMA 樫山 MUP600E 轻载工艺真空泵日本 KASHIYAMA 樫山工业水冷无油干式真空泵，最大抽速 10000L/min，极限真空 0.5Pa。MUP600E 为新一代工艺型泵，支持 0~45SLM 氮气吹扫，机身紧凑、功耗低，无油结构无碳氢污染，运行稳定，常用作分子泵配套前级真空泵，适配半导体 PVD、灰化、氧化物刻蚀等中轻载量产工艺。
产品型号
MU 系列-厂商性质
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42产品描述
KASHIYAMA 樫山 MU 系列 紧凑型干式真空泵主打小型化、超低能耗设计，机身体积相比同级别泵缩小约 35%。包含 X 标准版、GX 耐蚀款、PE/HE 轻载机型，可搭配氮气吹扫，适配从轻负荷锁仓到蚀刻等半导体工艺，常作为分子泵前级真空泵，广泛用于半导体、平板显示、MEMS、分析仪器等真空场景。
产品型号
SDE1203X-厂商性质
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44产品描述
KASHIYAMA樫山SDE1203X重载耐蚀螺杆真空泵最大抽速 20000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。SDE1203X 为节能标准版，搭载泵体恒温加热防凝系统，配置可调氮气吹扫，抑制工艺副产物沉积；无油结构无碳氢油污污染，变频驱动省电稳定，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适合半导体大容量晶圆锁仓、PECVD、ALD 薄膜沉积等洁净量产工艺。
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