半导体晶圆产线专用｜EBARA 荏原主力泵EV-S/EV-X/EV-M/EST/EV-H/EV-A系列

半导体工厂分为 Subfab 真空工艺排气、洁净药液 / 超纯水输送、公用工程水循环三大板块。近期我司新推出升级了多款规格，荏原 EBARA 在 8 寸、12 寸晶圆厂，以及面板、功率器件产线，主流使用下面几大类泵。

一、干式真空泵（Subfab 核心主力，荏原半导体）

无油干式结构，无油反流污染风险，用于刻蚀、CVD、ALD、PVD、LPCVD 等工艺排气，可处理腐蚀性气体与反应粉体副产物。

1. EV-S 系列 轻负荷小型干泵风冷紧凑型，负载轻。Loadlock 真空锁、PVD、检测设备、小型镀膜，洁净低粉尘工艺。

2. EV-X 系列 半导体通用主力款8/12 寸产线上使用量最大，兼顾腐蚀气体与少量副产物，模块化结构，现场拆装保养便捷，刻蚀、常规 CVD 大量配套。

3. EV-M 系列 重制程罗茨干式泵处理大量粉体、可凝副产物，LPCVD、金属沉积、ALD 等高吞吐量产工艺；可选镍合金防腐涂层，耐强腐蚀气体。

4. EST 螺杆式干泵耐高温，专门应对大量固体粉末析出工况，氮化、氧化工艺，副产物极易沉积的重腐蚀制程。

5. EV-H 新一代机型先进制程专用，强化副产物抑制，搭载故障预判数字化监测，适配高流量 ALD 沉积工艺。

6. EV-A 小型干泵实验室、研发机台、小型镀膜设备，体积小巧即插即用。

二、涡轮分子泵（高真空 / 超高真空 UHV）

用于机台内部高真空腔体、分析检测设备、镀膜腔体，获取无油洁净高真空。

1. EBT 陶瓷轴承分子泵，性价比高，抗冲击，研发设备、光学镀膜、表面分析仪器。

2. EMT 磁悬浮耐腐蚀分子泵，低振动，耐辐射，腐蚀性气体工艺腔体。

3. MK / MK-R 磁悬浮分子泵，无机械轴承磨损，超长寿命，UHV 超高真空场景。

三、UCW 高纯磁力泵（湿法清洗，超纯水 / 高纯药液输送）

半导体湿法清洗、CMP 供给回路核心输送泵，无轴封磁力驱动，零泄漏。接液材质可选 PFA/PTFE 高纯树脂或者高纯不锈钢，无金属离子析出。输送 18.2MΩ・cm 超纯水、显影液、剥离液、各类酸碱光刻配套药液，单片清洗机、槽式清洗机管路大量使用。

注意：磁力泵严禁空转，介质必须去除硬质颗粒，前端配置精密过滤器。

四、CEVMS 立式多级不锈钢离心泵（超纯水公用工程）

纯水站 RO 增压、超纯水循环、冷却循环水、锅炉补水，属于厂区公用工程配套泵，不直接输送光刻药液。体积紧凑，脉动小，适合纯水机房连续运行。

选型快速对照

• 刻蚀、CVD、ALD、PVD 工艺排气 → EV-S / EV-X / EV-M / EST 干式真空泵

• 机台腔体高真空、研发镀膜设备 → EBT / EMT / MK 涡轮分子泵

• 湿法清洗超纯水、酸碱高纯药液输送 → UCW 高纯磁力泵

• 超纯水制备、冷却水增压等公用工程 → CEVMS 立式多级离心泵

一线实测优缺点（非信息）

✅ 优势

1. EV 系列干泵无油设计，符合 SEMI 洁净标准，杜绝油蒸汽污染晶圆；

2. 防腐材质可选镍基合金，适配含卤素、氟化物等强腐蚀工艺尾气；

3. UCW 磁力泵无动密封，杜绝药液泄漏，不引入金属离子污染，保障良率；

4. 模块化设计，维护拆装便捷，全球半导体现场服务配套成熟；

5. EV-H 自带数字化监测，支持提前预判故障，减少非计划停机。

⚠️ 使用痛点

1. 粉体重制程工况，泵腔会沉积固体副产物，需要定期拆解清洗保养；

2. 磁力泵对颗粒敏感，一旦空转，隔离套极易烧毁报废；

3. 进口干泵、分子泵备件交付周期较长，产线建议常备易损件库存；

4. 干泵运行需要配套尾气处理系统，项目初期配套成本高；

5. 分子泵不能承受大量粉尘进入，前端必须做好颗粒防护。

适用场景

8 寸 / 12 寸晶圆制造、SiC/GaN 功率器件、OLED/LCD 面板、光伏硅片、掩膜板清洗、半导体研发实验室。