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产品型号
iXM200 -
厂商性质
经销商 -
更新时间
2026-09-28 -
浏览次数
74
产品描述
Edwards爱德华半导体干式真空泵iXH 系列爱德华（Edwards）是真空与尾气处理解决方案供应商，其半导体干式真空泵广泛应用于蚀刻、CVD、PVD、离子注入、晶圆搬运、光伏电池、平板显示等严苛制程，具备无油洁净、耐腐蚀、低能耗、长寿命等特点。
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iXM200厂商性质
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Edwards爱德华半导体干式真空泵iXH 系列爱德华（Edwards）是真空与尾气处理解决方案供应商，其半导体干式真空泵广泛应用于蚀刻、CVD、PVD、离子注入、晶圆搬运、光伏电池、平板显示等严苛制程，具备无油洁净、耐腐蚀、低能耗、长寿命等特点。
产品型号
MU1200XE-厂商性质
经销商更新时间
2026-09-11浏览次数
86产品描述
KASHIYAMA樫山MU1200XE大容量干式真空泵最大抽速 20000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MU1200XE 为大抽速洁净轻载机型，多级无接触罗茨转子结构稳定，可选配氮气吹扫，抑制工艺粉尘、水汽沉积；无油结构无碳氢油污污染，整机功耗低，机身紧凑，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体大容量晶圆锁仓、传送腔、PECVD、ALD 薄膜沉积等洁净量产工艺。
产品型号
MU600XE-厂商性质
经销商更新时间
2026-09-11浏览次数
71产品描述
KASHIYAMA樫山MU600XE大流量节能干式真空泵最大抽速 10000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MU600XE 为洁净轻载机型，多级无接触罗茨转子，可选配氮气吹扫，降低粉尘、水汽等工艺副产物沉积；无油结构无碳氢油污污染，整机低功耗，机身紧凑，常作为大型分子泵配套前级真空泵，适配半导体晶圆锁仓、传送腔、PECVD、ALD 等洁净薄膜量产工艺。
产品型号
MU300XE-厂商性质
经销商更新时间
2026-09-11浏览次数
67产品描述
KASHIYAMA 樫山MU300XE 中型节能干式真空泵最大抽速 5000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MU300XE 为洁净轻载机型，采用多级无接触罗茨转子，可选配氮气吹扫，降低水汽、粉尘在泵腔沉积；无油结构无碳氢油污污染，整机超低功耗，机身紧凑小巧，常作为中型分子泵配套前级真空泵，适配半导体晶圆锁仓、传送腔、PECVD、ALD 等洁净薄膜量产工艺。
产品型号
MU180X-厂商性质
经销商更新时间
2026-09-11浏览次数
77产品描述
KASHIYAMA 樫山 MU180X 紧凑型干式真空泵最大抽速 3000L/min，极限真空 0.5Pa，水冷结构。MU180X 为标准洁净机型，可选配氮气吹扫，抑制工艺粉尘、水汽等副产物沉积；无油结构无碳氢油污污染，机身紧凑、能耗低，常作为中型分子泵配套前级真空泵，适配半导体晶圆锁仓、传送腔、PECVD、ALD 等洁净型轻载量产工艺。
