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| 品牌 | Pillar/皮拉 | 传热方式 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,制药/生物制药,半导体 |
全氟树脂接液,极低金属离子析出:药液流道全面采用PFA与PTFE材质,壳体使用不接触药液的PVC或PP材质。无金属接触药液,能耐受各类强酸强碱(如SC1、SC2、、硫酸双氧水等),减少晶圆或基板表面的金属污染与颗粒缺陷。
熔接无O型圈,杜绝析出污染:换热器接头采用全氟碳聚合物熔接工艺,密封部位不使用O型圈,从根本上避免了橡胶老化、溶出杂质对高纯电子化学品的污染。
Super 300 一体化入珠接头:全系标配PILLAR经典的SUPER300 Type卡套接头™,可直接与PFA管路、波纹管泵、阀门(如PSV/PGB)对接,装配有到位确认感,拆装方便,系统无二次污染风险。
冷热两用与在线维护:支持药液加热与冷却。流道平滑,支持CIP在线清洗;模块化管束支持单独抽出检修。
HEMTM/HEMTW(多管束壳管式):多根PFA细管束组成换热芯(HEMTM为U型模块,HEMTW为W型紧凑弯折),管内走高纯药液,壳程通逆流温控介质(热水/冷却水),通过薄壁管束扩大接触面积,实现大流量换热。
HEN(盘管套管式):药液在内部PFA盘管内流动,外部套管通入温控介质。双层隔离设计确保即使内部盘管破损,药液也不会与温控水串液混合,安全性较高。
全系列最高允许工作压力为 0.5 MPaG(HEN)至 0.7 MPaG(部分款式),适用环境温度:0~60℃。
1. HEMTM系列:U型多管束壳管式(适用于中大流量主回路)
最高使用温度:160℃;总传热系数:300~750 kJ/m²hr℃。
| 管束系列 | 型号 (Product No.) | 管接口尺寸 (mm) | 参考换热面积 (m²) | 典型应用 |
|---|---|---|---|---|
| 37系列 | HEMTM 37-04A-P12 / PW4 | 12×10 / 12×9.5 | 0.7 | 中等流量药液温控 |
| HEMTM 37-07A-P12 / PW4 | 12×10 / 12×9.5 | 约1.2 | 大型槽体主循环 | |
| HEMTM 37-10A-P12 / PW4 | 12×10 / 12×9.5 | 约1.7 | 大流量换热 | |
| 91系列 | HEMTM 91-10A-P19 / PW6 | 19×16 | 约1.7 | 大口径主回路 |
| HEMTM 91-15A-P19 | 19×16 | 约2.5 | 超大流量浸槽恒温 | |
| HEMTM 91-20A-P19 | 19×16 | 约3.3 | 超大流量换热 | |
| HEMTM 91-30A-P19 | 19×16 | 约4.2 | 大容量药液持续控温 | |
| HEMTM 91-40A-P19 | 19×16 | 约5.0 | 特大流量主循环 | |
| 169系列 | HEMTM 169-25A-P25 / PW8 | 25×22 | 约5.2 | 特大型系统换热 |
2. HEMTW系列:W型多管束壳管式(适用于空间紧凑的中大流量)
规格同属160℃与0.5 MPaG设计标准,管束弯折成W形,在狭窄机架空间内获得较大换热面积。
| 管束系列 | 型号 (Product No.) | 管接口尺寸 (mm) | 典型应用 |
|---|---|---|---|
| 37系列 | HEMTW 37-04A-P12 | 12×10 | 空间受限的中等流量工位 |
| HEMTW 37-07A-P12 | 12×10 | 空间受限的较大流量工位 | |
| HEMTW 37-10A-P12 | 12×10 | 空间受限的大流量工位 | |
| 91系列 | HEMTW 91-15A-P19 | 19×16 | 大流量且安装空间紧凑 |
| HEMTW 91-20A-P19 / PW6 | 19×16 | 超大流量紧凑型 | |
| HEMTW 91-30A-PW6 | 19×16 | 特大型系统英制接口 |
3. HEN系列:盘管套管式(适用于小流量精密温控)
盘管结构,拥有双层隔离安全性。
| 型号 (Product No.) | 有效换热面积 | 接头规格 (Super 300) | 药液流量上限 | 药液冷却前最高温度 | 典型应用 |
|---|---|---|---|---|---|
| HEN-025-P8 | 0.025 m² | 适配φ8mm | 100 mL/min | 200℃ | 极小流量药液温控 |
| HEN-050-P10 | 0.05 m² | 适配φ10mm | 100 mL/min | 200℃ | 设备支路、单片清洗 |
| HEN-100-P12 | 0.1 m² | 适配φ12mm | 100 mL/min | 200℃ | 中等流量支路 |
| HEN-200-P12 | 0.2 m² | 适配φ12mm | 100 mL/min | 200℃ | 偏大流量支路 |
半导体晶圆湿法清洗与刻蚀:用于大型浸槽(如SC1、SC2、SPM等药液循环槽)的主回路恒温;以及湿法刻蚀、光刻胶剥离、显影液等大流量循环加热与冷却。
CMP后清洗与超纯水系统:用于CMP后清洗槽药液循环,以及18.2 MΩ·cm超纯水回路加热与冷却,维持高电阻率。
FPD显示面板与PCB:玻璃基板大型清洗槽恒温,彩膜/阵列段蚀刻与剥膜槽大流量酸碱温控;PCB行业酸性蚀刻液、棕化、除胶渣槽等大容量药液循环。
光伏与高纯精细化工:硅片制绒槽、刻蚀槽高纯化学品循环温控;高纯电子试剂生产、酸碱回收与高腐蚀有机药液的无金属污染回路。
严禁超温超压:多管式(HEMTM/HEMTW)严禁超过160℃与0.5 MPaG;HEN系列药液冷却前温度可达200℃,但工作压力需控制在0.7 MPaG以内。
壳侧使用建议:壳程温控水建议使用高纯去离子水,防止PVC/PP壳体与PFA管束外壁结垢影响传热。
安装应力管理:PFA管束与接头耐扭转能力有限,管路连接时避免对换热器施加扭力、拉扯力或过度震动。
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