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PILLAR皮拉套管盘管换热器PFA半导体温控

简要描述:PILLAR皮拉套管盘管换热器PFA半导体温控PILLAR(皮拉)的氟树脂换热器(HEMTM/HEMTW多管式与HEN盘管套管式)是专为半导体、FPD及高纯化工湿法工艺设计的精密温控装备。它通过全氟树脂接液与无O型圈熔接技术,有效规避了金属离子析出与药液污染,是针对强腐蚀性高纯药液实现稳定加热与冷却的核心组件。

基础信息

产品型号

HEN-100-P12-

厂商性质

经销商

更新时间

2026-10-29

浏览次数

4
详细介绍
品牌Pillar/皮拉传热方式其他
应用领域化工,制药/生物制药,半导体

PILLAR皮拉套管盘管换热器PFA半导体温控PILLAR皮拉套管盘管换热器PFA半导体温控
🎯 核心技术特性

  • 全氟树脂接液,极低金属离子析出:药液流道全面采用PFA与PTFE材质,壳体使用不接触药液的PVC或PP材质。无金属接触药液,能耐受各类强酸强碱(如SC1、SC2、、硫酸双氧水等),减少晶圆或基板表面的金属污染与颗粒缺陷。

  • 熔接无O型圈,杜绝析出污染:换热器接头采用全氟碳聚合物熔接工艺,密封部位不使用O型圈,从根本上避免了橡胶老化、溶出杂质对高纯电子化学品的污染。

  • Super 300 一体化入珠接头:全系标配PILLAR经典的SUPER300 Type卡套接头™,可直接与PFA管路、波纹管泵、阀门(如PSV/PGB)对接,装配有到位确认感,拆装方便,系统无二次污染风险。

  • 冷热两用与在线维护:支持药液加热与冷却。流道平滑,支持CIP在线清洗;模块化管束支持单独抽出检修。

🔬 结构原理与差异

  • HEMTM/HEMTW(多管束壳管式):多根PFA细管束组成换热芯(HEMTM为U型模块,HEMTW为W型紧凑弯折),管内走高纯药液,壳程通逆流温控介质(热水/冷却水),通过薄壁管束扩大接触面积,实现大流量换热。

  • HEN(盘管套管式):药液在内部PFA盘管内流动,外部套管通入温控介质。双层隔离设计确保即使内部盘管破损,药液也不会与温控水串液混合,安全性较高。

📊 三大系列全规格与选型矩阵

全系列最高允许工作压力为 0.5 MPaG(HEN)至 0.7 MPaG(部分款式),适用环境温度:0~60℃。

1. HEMTM系列:U型多管束壳管式(适用于中大流量主回路)
最高使用温度:160℃;总传热系数:300~750 kJ/m²hr℃。

管束系列型号 (Product No.)管接口尺寸 (mm)参考换热面积 (m²)典型应用
37系列HEMTM 37-04A-P12 / PW412×10 / 12×9.50.7中等流量药液温控

HEMTM 37-07A-P12 / PW412×10 / 12×9.5约1.2大型槽体主循环

HEMTM 37-10A-P12 / PW412×10 / 12×9.5约1.7大流量换热
91系列HEMTM 91-10A-P19 / PW619×16约1.7大口径主回路

HEMTM 91-15A-P1919×16约2.5超大流量浸槽恒温

HEMTM 91-20A-P1919×16约3.3超大流量换热

HEMTM 91-30A-P1919×16约4.2大容量药液持续控温

HEMTM 91-40A-P1919×16约5.0特大流量主循环
169系列HEMTM 169-25A-P25 / PW825×22约5.2特大型系统换热

2. HEMTW系列:W型多管束壳管式(适用于空间紧凑的中大流量)
规格同属160℃与0.5 MPaG设计标准,管束弯折成W形,在狭窄机架空间内获得较大换热面积。

管束系列型号 (Product No.)管接口尺寸 (mm)典型应用
37系列HEMTW 37-04A-P1212×10空间受限的中等流量工位

HEMTW 37-07A-P1212×10空间受限的较大流量工位

HEMTW 37-10A-P1212×10空间受限的大流量工位
91系列HEMTW 91-15A-P1919×16大流量且安装空间紧凑

HEMTW 91-20A-P19 / PW619×16超大流量紧凑型

HEMTW 91-30A-PW619×16特大型系统英制接口

3. HEN系列:盘管套管式(适用于小流量精密温控)
盘管结构,拥有双层隔离安全性。

型号 (Product No.)有效换热面积接头规格 (Super 300)药液流量上限药液冷却前最高温度典型应用
HEN-025-P80.025 m²适配φ8mm100 mL/min200℃极小流量药液温控
HEN-050-P100.05 m²适配φ10mm100 mL/min200℃设备支路、单片清洗
HEN-100-P120.1 m²适配φ12mm100 mL/min200℃中等流量支路
HEN-200-P120.2 m²适配φ12mm100 mL/min200℃偏大流量支路

🏭 半导体与工业应用

  • 半导体晶圆湿法清洗与刻蚀:用于大型浸槽(如SC1、SC2、SPM等药液循环槽)的主回路恒温;以及湿法刻蚀、光刻胶剥离、显影液等大流量循环加热与冷却。

  • CMP后清洗与超纯水系统:用于CMP后清洗槽药液循环,以及18.2 MΩ·cm超纯水回路加热与冷却,维持高电阻率。

  • FPD显示面板与PCB:玻璃基板大型清洗槽恒温,彩膜/阵列段蚀刻与剥膜槽大流量酸碱温控;PCB行业酸性蚀刻液、棕化、除胶渣槽等大容量药液循环。

  • 光伏与高纯精细化工:硅片制绒槽、刻蚀槽高纯化学品循环温控;高纯电子试剂生产、酸碱回收与高腐蚀有机药液的无金属污染回路。

💡 维护与使用要点

  • 严禁超温超压:多管式(HEMTM/HEMTW)严禁超过160℃与0.5 MPaG;HEN系列药液冷却前温度可达200℃,但工作压力需控制在0.7 MPaG以内。

  • 壳侧使用建议:壳程温控水建议使用高纯去离子水,防止PVC/PP壳体与PFA管束外壁结垢影响传热。

  • 安装应力管理:PFA管束与接头耐扭转能力有限,管路连接时避免对换热器施加扭力、拉扯力或过度震动。

  • 我司优势代理品牌:坂口电热 SAKAGUCHI、EYE岩崎、SEN日森、CCS晰写速、NPM日脉、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克、SONIC索尼克:、SANKO三高、TOKI东机产业、NEWKON新光、HAYASHI林时计、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山电机、OHKURA大仓、UILVAC爱发科、TORAY东丽、EBARA荏原、ANALYZER第一热研、NFK南国工业株式会社、MATSUO松尾、NIKKATO日陶、HEIDON新东科学、JIKCO吉高、0TSUKA大塚电子、ITOH伊藤、日本MTL、THOMAS、kakuhunter写真化学、WATSON沃森、RIYYO理阳、ESSGES宜格斯、ATAGO爱拓、PFERD马圈、TEMITOP乐控TSUBAKI椿本、MIYUKI 美幸辉


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