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91-5635M-350-50厂商性质
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SIMCO思美高AeroBar 5635MP 无金属离子棒采用调制脉冲（MP）技术的超净型离子棒，专为半导体制造和其他超洁净制程设计，可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统，可实现ISO 14644-12 和ISO 14644 Class 1 洁净度，满足小制程节点的关键需求
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91-5635-2350-75厂商性质
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SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 静电中和棒采用调制脉冲（MP）技术的超净型离子棒，专为半导体制造和其他超洁净制程设计，可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统，可实现I洁净度，满足小制程节点的关键需求
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91-5635-2350-75厂商性质
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SIMCO思美高AeroBar 5635MP产线静电消除用调制脉冲（MP）技术的超净型离子棒，专为半导体制造和其他超洁净制程设计，可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统，可实现I洁净度，满足小制程节点的关键需求
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91-5635-2200-75厂商性质
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15产品描述
SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 离子发生器用调制脉冲（MP）技术的超净型离子棒，专为半导体制造和其他超洁净制程设计，可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统，可实现I洁净度，满足小制程节点的关键需求
产品型号
91-5635-2050-75厂商性质
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20产品描述
SIMCO思美高AeroBar 5635MP 静电消除器 用调制脉冲（MP）技术的超净型离子棒，专为半导体制造和其他超洁净制程设计，可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统，可实现I洁净度，满足小制程节点的关键需求
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