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  • 91-5635-1000-75SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 除静电棒
    91-5635-1000-75SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 除静电棒

    产品型号

    91-5635-1000-75

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-10-10

    浏览次数

    11

    产品描述

    SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 除静电棒 采用调制脉冲(MP)技术的超净型离子棒,专为半导体制造和其他超洁净制程设计,可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统,可实现I洁净度,满足小制程节点的关键需求
  • 91-5635-850-75SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 离子发生器
    91-5635-850-75SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 离子发生器

    产品型号

    91-5635-850-75

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-10-10

    浏览次数

    13

    产品描述

    SIMCO思美高 AeroBar 5635MP 离子发生器采用调制脉冲(MP)技术的超净型离子棒,专为半导体制造和其他超洁净制程设计,可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统,可实现I洁净度,满足小制程节点的关键需求
  • 91-5635-600-50SIMCO思美高5635MP 静电消除器离子棒
    91-5635-600-50SIMCO思美高5635MP 静电消除器离子棒

    产品型号

    91-5635-600-50

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-10-10

    浏览次数

    11

    产品描述

    SIMCO思美高5635MP 静电消除器离子棒采用调制脉冲(MP)技术的超净型离子棒,专为半导体制造和其他超洁净制程设计,可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统,可实现ISO 14644-12(0.01 µm或纳米颗粒) 和ISO 14644 Class 1(0.1 µm颗粒) 洁净度,满足小制程节点的关键需求
  • 5635-450-50SIMCO思美高 5635离子棒 短棒高密度除静电
    5635-450-50SIMCO思美高 5635离子棒 短棒高密度除静电

    产品型号

    5635-450-50

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-10-10

    浏览次数

    13

    产品描述

    SIMCO思美高 5635离子棒 短棒高密度除静电5635 采用调制脉冲(MP)技术的超净型离子棒,专为半导体制造和其他超洁净制程设计,可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统,可实现ISO 14644-12(0.01 µm或纳米颗粒) 和ISO 14644 Class 1(0.1 µm颗粒) 洁净度
  • AeroBar5635MPSIMCO思美高离子棒半导体超净制程静电消除
    AeroBar5635MPSIMCO思美高离子棒半导体超净制程静电消除

    产品型号

    AeroBar5635MP

    厂商性质

    经销商

    更新时间

    2026-10-10

    浏览次数

    14

    产品描述

    SIMCO思美高离子棒半导体超净制程静电消除SIMCO-ION思美高AeroBar® 5635 MP是一款采用调制脉冲(MP)技术的超净型离子棒,专为半导体制造和其他超洁净制程设计,可满足快速放电、低摆动电压和高精度离子平衡的严苛要求。该产品采用单晶硅发射器和精密调节系统,可实现ISO 14644-12(0.01 µm或纳米颗粒) 和ISO 14644 Class 1(0.1 µm颗粒) 洁净度
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