简要描述：Edwards爱德华半导体干式真空泵iXH450HEdwards爱德华半导体干式真空泵iXH 系列爱德华（Edwards）是真空与尾气处理解决方案供应商，其半导体干式真空泵广泛应用于蚀刻、CVD、PVD、离子注入、晶圆搬运、光伏电池、平板显示等严苛制程，具备无油洁净、耐腐蚀、低能耗、长寿命等特点。

一、iXM 系列——低能耗，高性能

产品定位：为关键半导体应用带来真正的制程改进，通过提升正常运行时间和成本效益，实现高性能与低能耗的平衡。

核心优势：

• 高效根源机制，输入功率减少多达60%

• 气体阻隔技术和热设计改进，抗腐蚀性比前代提高4倍

• 优化的粉尘处理功能，为多层蚀刻工艺提供高可靠性

• 设计紧凑，噪声和振动极低

• 采用 XCEDE 技术，进一步增强耐腐蚀性

型号数量：4个核心型号，覆盖 200 至 1800 m³/h 抽速范围。

代表型号：iXM200、iXM600、iXM1210、iXH1800（部分资料将其归入该尺寸段）。
Edwards爱德华半导体干式真空泵iXH450HEdwards爱德华半导体干式真空泵iXH450H

二、iXH 系列——用于恶劣环境

产品定位：在严苛工艺环境下的工作能力、可靠性和更低拥有成本方面树立新。

核心优势：

• 宽广温度范围，更大程度减少冷凝和电镀副产物累积

• iXH Mk2 型号可在严苛工艺中提供更长使用寿命，并显著提高功效

• 创新密封技术，延长制程寿命并降低泄漏风险

• 采用 XCEDE 技术，增强耐腐蚀性

型号数量：超过15个型号，涵盖基础型和带增压器型。

代表型号：

• 基础型号：iXH100、iXH200H、iXH450H、iXH500H、iXH610、iXH645H、iXH1210

• 带增压器型号：iXH3045H、iXH3050H、iXH4545HT、iXH4550HT、iXH6045HT、iXH6050HT

• 其他变体：iXH1220HTXS XD+、iXH1820HTXS XD+、iXH1220HTX、iXH1820H、iXH1820HTX、iXH3050HTX、iXH6050HT、iXH3030TX、iXH3030、iXH3030T、iXH1220H、iXH1220HTX、iXH1820T、iXH1820 等。

三、iXL 系列——用于轻型应用

产品定位：低能耗紧凑型干式泵，适用于晶圆处理、PVD 和计量等轻型应用。

核心优势：

• 快速腔体抽空和低功耗

• iXL600(N) 和 iXL1000(N) 是轻型应用中非常小、非常安静的泵

• iXL600M 和 iXL1000M 经过工艺加固，专门用于电介质（氧化）蚀刻等类似应用

• iXL900R 适用于真空锁室抽空，尤其适用于 PVD 应用的大型真空锁室抽空

• 绿色模式可减少闲置期间的公共设施使用，降低成本并提高环境绩效

型号数量：6个核心型号。

代表型号：iXL600(N)、iXL1000(N)、iXL600M、iXL1000M、iXL900R、iXL120。

四、Ganymede 系列——新一代重型干式真空泵

产品定位：新一代平台，专为挑战性的半导体工艺设计，如 PECVD、ALD、PEALD、SACVD、LPCVD、外延生成等。

核心优势：

• 粉末处理能力高达 6倍，减少中断次数，延长保养间隔

• 与上一代 iXH 相比，节能60%，PCW使用量减少40%，氮气使用量减少25%

• 占地面积减小30%，可在子工厂中实现更高腔室密度

• 客户范围2的CO₂等效排放量减少高达49%，支持工厂可持续发展目标

型号数量：目前为新一代平台，未公开具体子型号，具体以爱德华最新选型手册为准。

五、应用领域

Edwards 半导体干式真空泵广泛应用于：

• 半导体制造：蚀刻、CVD、PVD、离子注入、ALD、外延

• 光伏电池：PECVD、扩散、刻蚀

• 平板显示：TFT、OLED 制程

• LED 制造、真空镀膜、晶圆搬运、Load Lock 抽空