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| 品牌 | TRINC/高柳 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 半导体 |
N₂ Bartlink 是 TRINC 高柳专门针对氮气密闭腔体开发的无风条形离子发生器;是可在氮气 (N₂) 气氛环境内部直接使用的静电消除器。主要用于半导体氮气置换腔、氮气工艺箱内部,在充满氮气的密闭工况下完成工件静电中和;无风设计,不产生气流扰动,适合半导体晶圆、芯片在氮气环境制程的静电对策。
进口TRINC高柳半导体氮气除静电棒TAS‑1284 BAM‑N2‑300进口TRINC高柳半导体氮气除静电棒TAS‑1284 BAM‑N2‑300
基础型号:TAS‑1284 BAM‑N2‑300
本款为氮气环境专用机型,专门适配充氮腔体,普通离子棒不可以在氮气腔体内正常工作,该型号解决氮气氛围下除静电的行业难题。
无风静电消除无需压缩空气吹拂,依靠离子扩散实现静电中和;不会产生气流扰动,避免腔体内部颗粒飞扬,降低晶圆异物污染风险。
无泄漏静电消除低漏电控制,漏电流抑制,保护半导体精密芯片、薄型晶圆基材,防止放电损伤元器件。
超低功耗低功耗设计,可以长期通电连续运行,适配半导体设备 24 小时不间断生产。
兼容氮气环境产品经过特殊优化,腔体充满氮气环境依然可以稳定生成正负离子,实现除静电;普通离子发生器在氮气氛围中离子发生会失效。
高离子平衡正负离子输出平衡性优秀,工件中和之后残余电位很低,除静电效果稳定可靠。
半导体氮气密闭工艺腔体、氮气置换工艺箱;
晶圆氮气保存箱、氮气传输腔内部静电消除;
芯片封装充氮工位;适用于腔体内部填充氮气,隔绝氧气的特殊工艺环境下消除静电,解决氮气环境原有除静电设备无法工作的痛点。
仅限氮气氛围工况使用,不要用于普通大气工况以外其他特殊气体;
无风结构,只做静电中和,无喷气吹扫灰尘功能;
适配半导体对腔体洁净度管控的无尘制程。
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