简要描述：进口TRINC高柳氮气腔体离子棒TAS‑1284 BAM‑N2‑300在氮气环境下运行的无风扇离子发生器（静电消除器）
特征
■ 无风静电消除
■ 无泄漏静电消除
■ 超低功耗
■ 兼容氮气环境
■ 高离子平衡

一、产品概述

N₂ Bartlink 是 TRINC 高柳专门针对氮气密闭腔体开发的无风条形离子发生器；是可在氮气 (N₂) 气氛环境内部直接使用的静电消除器。主要用于半导体氮气置换腔、氮气工艺箱内部，在充满氮气的密闭工况下完成工件静电中和；无风设计，不产生气流扰动，适合半导体晶圆、芯片在氮气环境制程的静电对策。
进口TRINC高柳氮气腔体离子棒TAS‑1284 BAM‑N2‑300进口TRINC高柳氮气腔体离子棒TAS‑1284 BAM‑N2‑300

✅型号

基础型号：TAS‑1284 BAM‑N2‑300

本款为氮气环境专用机型，专门适配充氮腔体，普通离子棒不可以在氮气腔体内正常工作，该型号解决氮气氛围下除静电的行业难题。

二、产品核心特征

1. 无风静电消除无需压缩空气吹拂，依靠离子扩散实现静电中和；不会产生气流扰动，避免腔体内部颗粒飞扬，降低晶圆异物污染风险。

2. 无泄漏静电消除低漏电控制，漏电流抑制，保护半导体精密芯片、薄型晶圆基材，防止放电损伤元器件。

3. 超低功耗低功耗设计，可以长期通电连续运行，适配半导体设备 24 小时不间断生产。

4. 兼容氮气环境产品经过特殊优化，腔体充满氮气环境依然可以稳定生成正负离子，实现除静电；普通离子发生器在氮气氛围中离子发生会失效。

5. 高离子平衡正负离子输出平衡性优秀，工件中和之后残余电位很低，除静电效果稳定可靠。

三、应用场景

• 半导体氮气密闭工艺腔体、氮气置换工艺箱；

• 晶圆氮气保存箱、氮气传输腔内部静电消除；

• 芯片封装充氮工位；适用于腔体内部填充氮气，隔绝氧气的特殊工艺环境下消除静电，解决氮气环境原有除静电设备无法工作的痛点。

选型要点

1. 仅限氮气氛围工况使用，不要用于普通大气工况以外其他特殊气体；

2. 无风结构，只做静电中和，无喷气吹扫灰尘功能；

3. 适配半导体对腔体洁净度管控的无尘制程。

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