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KASHIYAMA樫山MU-XE系列节能干式真空泵

简要描述:KASHIYAMA樫山MU-XE系列节能干式真空泵抽速覆盖 1660~20000L/min,极限真空 0.5~1.5Pa,无油结构无碳氢油污污染,可配套氮气吹扫抑制工艺副产物沉积,常作为分子泵配套前级真空泵,多用于半导体晶圆传送腔、Load-Lock、洁净薄膜工艺等场景。

基础信息

产品型号

MU-XE系列-

厂商性质

经销商

更新时间

2026-09-11

浏览次数

90
详细介绍
品牌KASHIYAMA/日本输送介质其他
泵轴位置边立式叶轮数目其他
应用领域半导体


产品简介:MU-XE 系列为日本 KASHIYAMA 樫山工业水冷无油干式真空泵,主打超小占地、超低功耗设计,GX 为同系列耐蚀版本。抽速覆盖 1660~20000L/min,极限真空 0.5~1.5Pa,无油结构无碳氢油污污染,可配套氮气吹扫抑制工艺副产物沉积,常作为分子泵配套前级真空泵,多用于半导体晶圆传送腔、Load-Lock、洁净薄膜工艺等场景。

产品特点

  1. 行业超低能耗,专用同步电机 + 转子优化设计,相比同等级干泵能耗大幅降低,长期量产节约电费。

  2. 紧凑机身,同抽速下设备体积更小,可直接内嵌集成在半导体设备机台内部,节省产线安装空间。

  3. 洁净无油真空,泵腔不含润滑油,杜绝返油污染,保护晶圆与真空腔体洁净,适配半导体洁净制程。

  4. 可选氮气吹扫,降低粉尘、水汽在泵内附着堆积,延长维护周期,GX 版本腔体做耐蚀强化,适配轻度腐蚀工况。

  5. 内置压力、温度、缺水监测与故障报警,自动化信号输出,满足 SEMI、CE 安全规范。

适用范围

半导体 Load-Lock 晶圆锁仓、晶圆传送腔、PECVD、ALD 洁净薄膜工艺;MEMS、LED 洁净真空设备;FPD 平板显示、光伏轻载真空腔体;各类高真空分析仪器前级系统。

标准配件

干泵主机;可选配件:控制器、氮气吹扫组件、报警采集模块、原厂维修备件包
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主要型号

规格/型号MU100XEMU180XMU300XEMU600XEMU1200XE
最大排气速度
[升/分钟] *1 *5
1,6603,0005,00010,00020,000
极限压力
[Pa] *1
1.50.5
电源电压
(50/60Hz)
三相交流200~220V *2
功耗
[kW] *3
0.250.50.450.50.6
外形尺寸 [mm] 长×宽×高*4450×230×275550×280×299450×230×520530×230×520625×275×580
质量 [kg]6095100120165

*1. 不使用氮气吹扫时的数值。*2. 如有其他电源要求,请另行联系我们。*3. 峰值运行期间的近似功耗。
*4. 封装尺寸。详细尺寸请索取外观图。*5. 最大抽速为近似值。
*另有大排量泵可供选择,

排气性能曲线

KASHIYAMA樫山MU-XE系列节能干式真空泵

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