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KASHIYAMA樫山MU600PE大流量节能干式真空泵

简要描述:KASHIYAMA樫山MU600PE大流量节能干式真空泵。最大抽速 10000L/min,极限真空 0.5Pa,水冷结构。MU600PE 为标准轻载机型,罗茨转子结构稳定,可选配氮气吹扫,减少水汽、工艺粉尘沉积;无油结构无碳氢油污污染,整机功耗低,机身紧凑,常作为大型分子泵配套前级真空泵,适合半导体大容量晶圆锁仓、PECVD、ALD 等洁净型量产真空工艺。

基础信息

产品型号

MU600PE-

厂商性质

经销商

更新时间

2026-09-11

浏览次数

73
详细介绍
品牌KASHIYAMA/日本输送介质其他
泵轴位置边立式叶轮数目其他
应用领域半导体


产品简介:MU-PE/HE 系列为日本 KASHIYAMA 樫山工业水冷无油干式真空泵,PE 为标准轻载机型,HE 可搭载热氮气吹扫,提升工艺耐受性。整机主打超低功耗、小型紧凑机身,抽速覆盖 1660~10000L/min,无油结构消除碳氢油污污染,适配从轻负荷锁仓到中等刻蚀多种半导体工艺,作为分子泵配套前级真空泵,广泛应用于半导体、FPD 平板显示、MEMS、分析仪器等真空场景。

产品特点

  1. 超低功耗设计,罗茨转子结构优化,同抽速等级能耗更低,长期连续量产降低运行成本。

  2. 双版本可选:PE 标准版适配洁净工艺;HE 版本支持 Hot N₂热氮气吹扫,抑制水汽、粉尘、工艺副产物沉积,提升耐蚀能力。

  3. 无油干式真空结构,泵腔内部无润滑油,不存在返油污染风险,保护晶圆与真空腔体洁净。

  4. 紧凑小巧机身,整机体积精简,可直接集成在半导体设备机台内部,节省产线占地空间。

  5. 内置压力、温度、缺水监测与故障报警,支持自动化信号输出,满足 SEMI、CE 安全规范。

适用范围

半导体 Load-Lock 晶圆锁仓、CVD、PECVD、轻度刻蚀、灰化工艺;MEMS、LED 研发真空设备;SEM 等分析仪器高真级;FPD 平板显示、光伏中轻度腐蚀真空腔体。

标准配件

干泵主机;可选配件:控制器、氮气吹扫组件、报警采集模块、原厂维修备件包。
KASHIYAMA樫山MU600PE大流量节能干式真空泵KASHIYAMA樫山MU600PE大流量节能干式真空泵
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主要型号

规格/型号MU100PE/HEMU300PE/HEMU600PE/HE
最大排气速度
[升/分钟] *2
1,6605,00010,000
极限压力
[Pa] *2
3.00.5
电源电压
(50/60Hz)
三相交流200~220V *3
功耗
[kW] *4
0.60.80.85
外形尺寸 [mm] 长×宽×高*5630×350×360630×350×520
质量 [kg]70110130

*1. 请提前告知我们您的预期用途。*2. 此数值适用于无加热器规格且不使用氮气吹扫的情况。*3. 如有其他电源要求,请另行咨询。
*4. 此为峰值运行期间的近似功耗值。若支持热氮气吹扫,则需增加0.2kW 。 *5. 此为包装尺寸。详细尺寸请索取外部图纸。*6. 最大泵速为近似值。
*我们还提供大排量泵,欢迎垂询。

排气性能曲线

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