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| 品牌 | NMS/野村微水 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 仪器种类 | 在线型 | 应用领域 | 制药/生物制药,半导体 |
RC 监测仪是半导体超纯水回水回路专用的一体化快速水质防护设备。在晶圆湿清洗工序中,如果机台内部清洗药液发生倒流,污染物会顺着回水管网扩散到整套超纯水循环管路,造成整条产线水质恶化,引发大批量产品报废。这款设备就是布置在回水管路上的快速安全闸门,一旦捕捉到水质突变,立刻启动应急排水逻辑,阻止脏水回流进入纯水主循环系统。
设备内部集成多组独立的微型检测模块,同时采集水样的四项关键水质信号。内置专属快速判断算法,区别于传统分析仪长时间的采样与反应周期,大幅缩短判断耗时。当任意一项水质指标超出工厂设定阈值,设备直接输出开关量联锁信号,自动切换管路阀门,将不合格回水直接排废,合格的洁净回水才送回抛光系统,实现污染源头隔离。整套流路全部采用高纯材质,监测过程本身不会带入杂质干扰水质。
电阻率:监控无机酸碱、金属离子返流污染
总有机碳 TOC:识别有机溶剂、有机清洗药剂倒灌
溶解氧 DO:捕捉水体氧化状态异常变化
微量H₂O₂:监控双氧水类清洗介质回流
四项检测功能整合在一台柜体中,不用单独采购、安装多立仪表,节约机房占地与项目投资
检测响应速度快,针对突发性水质污染可以快速做出判断处理,减少受污染水体的体积
具备自动排水联锁能力,异常发生时自动执行保护动作,无需人员现场紧急操作
优化了波动识别逻辑,区分日常微小水质波动和真实的药液倒流污染,减少无效误报警
完整的数据存储、事件记录功能,水质曲线和报警信息可上传至工厂 MES 系统,方便后续不良追溯与工艺复盘
维护结构模块化,后期耗材更换、校准作业简单便捷,降低厂务运维工作量
设备安装在各湿制程机台回水汇总管路。正常工况下,达标的回水回收再利用;一旦出现清洗液逆流泄漏,立刻切排隔离污染源,保护抛光树脂、紫外杀菌单元、终端过滤等高价值纯水核心设备。广泛应用于 8/12 英寸晶圆厂、功率半导体、显示面板工厂的超纯水循环安全防护,和其余在线水质仪表一起构建全厂完整的水质风险防护网络。
响应时间:小于 1 分钟
使用单一设备即可管理离子、TOC、DO 和H₂O₂污染。
非常适合用作回水污染监测工具。
