简要描述：臭氧水处理设备NMS 野村微科学 超纯水装置NOMUREXON® 是一种通过在超纯水中溶解特定气体来制备功能性水的设备。
它可替代化学清洗方法，用于半导体、平板显示器 (FPD)、太阳能电池、微机电系统 (MEMS) 等设备的清洗过程中。

产品概述

NOMUREXON®O₃是日本野村微科学面向微电子湿制程开发的半导体级高纯臭氧水制备装置，以工厂超纯水为原水，在线生成可控浓度的臭氧功能水。臭氧具备强氧化能力，可以氧化去除晶圆表面有机残留、微粒与金属杂质，用来替代传统高浓度化学清洗药液，减少化学品消耗与废液处理压力；臭氧完成清洗后自行分解为氧气与纯水，无药剂残留，适配半导体、面板绿色清洗工艺野村マイク...。

工作原理

设备由臭氧发生单元、高纯气液混合模块、在线浓度监测与闭环控制系统组成。高纯度臭氧气体注入超纯水管路，依靠 NMS 专属高效溶解结构实现充分溶合；内置在线臭氧浓度仪表实时采集出水数值，自动调节臭氧进气量，快速稳定锁定目标浓度，开机后浓度上升速度快，满足机台间歇性取水的制程需求。整机流体部件全部采用半导体级高纯材质，不会向水体析出杂质污染基板。

基础规格参数

• 供水原水：Fab 超纯水

• 出水流量区间：5‑40 L/min

• 臭氧可调浓度：20～50 ppm，最高可实现 150 ppm 高浓度臭氧水（25℃工况）

• 标准配置：内置臭氧水在线浓度计、环境泄漏臭氧检测仪，自带安全联锁保护

• 控制扩展：支持工业通讯对接工厂 MES 系统，运行数据、报警信号可上传 Fab 自动化平台

产品核心特点

1. 浓度响应速度快，启停切换时臭氧浓度快速达标，适配单片式清洗机间歇性用水工况，制程一致性更好

2. 覆盖常规中浓度到 150 ppm 超高浓度方案，兼顾有机剥离、氧化清洗等不同工艺需求

3. 安全防护配置完整，标配水体浓度监测 + 车间环境臭氧泄漏检测，异常自动停机保护

4. 高纯无析出流路设计，避免金属离子、TOC 析出，不会对精密元器件造成二次污染

5. 功能水即产即用，臭氧自然分解，大幅降低硫酸、双氧水等湿化学品使用量，节约厂务危废处理成本

6. 支持单机独立供水与多机台集中供水两种布局方式

典型应用场景

半导体晶圆湿法清洗、光刻胶氧化剥离、MEMS 器件清洗、光伏电池制程、FPD 平板显示面板洗净；作为环保型功能水设备，搭配湿清洗机台，实现化学品减量的先进清洗方案。同系列产品线还有 NOMUREXON®H₂ 氢水制备设备，用于还原性清洗工艺。

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