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| 品牌 | NMS/野村微水 | 应用领域 | 制药/生物制药,半导体 |
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NOXiEMON® 是日本野村微科学(NMS)面向半导体 Fab 超纯水系统开发的无试剂型微量在线监测设备,专门捕捉超纯水回路里 ppb 级别的微量双氧水。半导体产线 TOC‑UV 紫外杀菌工艺会产生微量副产物 H₂O₂,这类微量氧化物一旦流入后端湿清洗工位,会改变清洗药液配方稳定性,造成晶圆表面氧化异常、良率波动。区别于传统需要化学试剂的比色法设备,NOXiEMON® 依靠固定化酶技术完成检测,全程无需添加任何化学药剂,大幅降低洁净厂房运维成本与废液排放压力.。
核心耗材为N‑Lite® DEP 酵素担持树脂,水样流经树脂单元时,在酶催化作用下分解生成氧气;后端搭配高精度溶解氧传感器检测氧气增量,换算得出水中 H₂O₂实时浓度。设备内置逻辑比对单元,自动扣除水体本底溶解氧干扰,即便在 TOC‑UV 出水这种复杂水质工况下,依然可以精准识别微量双氧水,不受其他杂质干扰。整套检测流程为物理 + 生物催化反应,不消耗化学试剂,仅需定期维护酶树脂模块。
整机结构:落地柜式一体化集成系统
外形尺寸:600mm × 600mm × 1200mm
整机重量:约 100kg
测量区间:0.3~60 ppb
检出下限:0.3 ppb(进水溶解氧波动≤0.1 ppb 条件下)
自带功能:酶模块老化自诊断、管路自动冲洗、异常报警输出;选配工业通讯对接工厂 MES 系统,实现数据实时上传、超限联锁预警
全程免化学试剂,不需要配置试剂泵、药剂储罐,不产生化学废液,降低洁净室化学品管理与危废处理成本
针对 TOC‑UV 产水优化,可以精准测量紫外杀菌生成的微量 H₂O₂,规避常规分析仪容易出现的信号漂移、误报问题
智能自诊断监控,实时判断 N‑Lite® DEP 树脂活性衰减状态,提前推送更换预警,避免测量失效造成制程失控
全自动管路冲洗程序,定时清洁流路,抑制管路内部微生物附着,长期保证测量稳定性
高纯湿制程适配设计,流体接触部件采用半导体级高纯材质,不会对水样造成二次污染,不影响超纯水水质
完整的数据记录、报警输出能力,适配半导体工厂自动化无人值守运维模式
半导体超纯水系统 TOC‑UV 杀菌后端管路监控、纯水回收回路微量监测、湿制程供水水质风险管控,用来预警紫外氧化副产物异常,保护晶圆清洗工艺稳定性,避免氧化物带来的芯片表面缺陷。作为 Fab 纯水品质管控的关键在线监测仪表,常与电阻率监测仪、颗粒计数器配套搭建完整的水质监控体系。
测量方法:N-Lite® DEP+DO 仪
尺寸:600毫米 x 600毫米 x 1200毫米
重量:约100公斤
测量限值:60 ppb
检测下限:0.3 ppb(当溶解氧变化在 0.1 ppb 以内时)
其他功能:自诊断功能、自动冲洗启动
N-Lite® DEP 的简单测量原理是将H₂O₂分解成 O₂ ,然后用溶解氧仪测量生成的 O₂ 。
由于未
使用任何化学品,也未添加任何添加剂,因此维护起来很容易。
N-Lite® DEP非常适合超纯水,还可以测量 TOC-UV 产生的 2O2,而不会受到干扰物质的
影响 。
它具有自动检测 N-Lite® DEP 劣化情况的功能,并具备自诊断能力。