V‑TEX 真空阀应用案例

案例 1 半导体集群式刻蚀设备｜ROLLCAM 矩形门阀

项目工况：8/12 英寸干法刻蚀集群机台，多工艺腔共用一套传输腔，晶圆需要在多个腔体之间来回传送；腔体需要互相隔离，维护某一个工艺腔时，不能破坏其余腔体的真空，对阀门要求低颗粒污染、百万次循环寿命，防止微粒造成晶圆良率下降。

选用产品：ROLLCAM‑222×48、ROLLCAM‑336×50 矩形狭缝门阀，带波纹管 D、位置传感器 C，部分负载锁工位选用 R 逆压规格。

应用效果Rollcam 滚凸轮结构，密封圈无滑动摩擦，启闭产生微粒少，避免晶圆被颗粒污染。波纹管把驱动机构和真空腔体隔开，外部油脂不会进入真空内部。阀门带开 / 关信号联锁，防止误动作损伤晶圆。单台设备多台阀门搭配，腔体单独维护，不用整台设备破真空，大幅缩短设备停机维护时间。

案例 2 CVD 薄膜沉积设备｜APC 数控摆阀

项目工况：CVD 化学气相沉积腔体，工艺过程需要精准稳定维持腔体内工艺气压，压力波动会直接造成薄膜厚度不均，影响芯片工艺良率；普通开关阀只能全开全关，无法实现连续调压。

选用产品：V‑TEX APC 数控摆阀，搭配控制器闭环压力调节。

应用效果实时调节排气流导，稳定控制腔室工艺压力，抑制气压波动，薄膜成膜一致性提升。波纹管密封结构，耐受工艺腐蚀性气体；低发尘，适配半导体工艺环境，长期连续生产工况稳定。

案例 3 OLED 面板镀膜产线｜Twin‑ROLLCAM 大开口矩形门阀

项目工况：OLED、LCD 面板生产线，大尺寸玻璃基板需要跨腔传送，多腔连续溅射镀膜；基板尺寸大，阀门开口大，要求阀板受力均匀，启闭振动小，避免基板移位碎裂。

选用产品：Twin‑ROLLCAM 双凸轮大开口矩形门阀。

应用效果双凸轮结构，大阀板受力均匀，启闭冲击振动小，防止玻璃基板位移破损。大开口满足大基板通行，隔离镀膜腔与传输腔，防止不同腔室工艺气体互相串扰，保障镀膜品质。

案例 4 Load‑lock 负载锁预抽腔体｜R 逆压型矩形门阀

项目工况：晶圆从大气环境送入真空机台，负载锁腔一侧是大气，一侧是高真空，阀门关闭时需要承受双向压差；晶圆完成预抽之后再送入传输腔。

选用产品：带‑R 逆压规格 ROLLCAM 矩形门阀。

应用效果支持外侧大气、内侧真空的压差工况，实现大气与真空腔体可靠隔离。阀门关闭密封性好，氦漏率低，预抽腔抽气速度快，缩短晶圆上下料节拍，保护内部传输腔真空不被大气破坏。

案例 5 ALD 原子层沉积设备｜H 加热型矩形门阀

项目工况：ALD 工艺会产生大量工艺副产物粉末，容易冷凝附着在阀门密封面上，长期堆积会造成密封失效、漏率上升。

选用产品：‑H 阀体加热版本 ROLLCAM 矩形门阀，搭配 Kalrez 全氟密封件。

应用效果阀体加热，抑制工艺副产物冷凝粘附，减少粉末堆积，延长密封圈使用寿命，降低设备备件更换频次，适配腐蚀性工艺气体。

案例 6 科研超高真空实验平台｜IPV 摆阀、插板阀

项目工况：实验室多腔体科研真空系统，包含样品传输、镀膜、分析腔体，需要腔体隔离、管路通断，追求低漏率、洁净无油污染。

选用产品：IPV 二位摆阀、小型插板阀。

应用效果漏率指标优异，维持腔体高真空；波纹管隔绝驱动油脂，不会污染真空环境；启闭稳定，满足科研设备间歇式实验使用需求。