DIC 迪爱生 eFLOW 3AC-P201 超纯水防静电装置技术介绍

eFLOW 3AC-P201 隶属于 DIC 迪爱生 eFLOW C 系列独立柜式超纯水防静电装置，依托迪爱生自研 SEPAREL 中空纤维透气膜核心技术打造，面向大流量半导体湿法清洗产线开发，适配 10～50L/min 流体工况，适合连续式大型清洗设备、多条清洗腔体集中供水、老旧产线升级改造项目。型号编码中 3 代表大流量机型配置等级，AC 代表一体化独立落地机柜结构，P201 为标准化洁净管路配置规格。该机型流体处理能力与 3AP-B01 面板嵌入式机型保持一致，二者核心差异为安装形态；3AC-P201 整机集成电阻率传感单元、控制管路、气体安置空间，无需嵌入清洗设备机柜，就位对接管路即可投入运行。

18.2MΩ・cm 超纯水具备绝缘特性，水流高速冲刷晶圆、掩膜板、光学玻璃基板、PFA 管路内壁时极易持续积聚静电。静电会引发两类重大生产不良：静电吸附环境内微粒子，造成基板表面颗粒污染缺陷；瞬时静电放电击穿芯片微细线路、光刻图形，导致元器件性损毁。传统防静电方案大多依靠添加化学药剂，容易造成超纯水二次污染，电阻率控制波动大，设备维护频次高。eFLOW 系列采用纯物理气液交换工艺，全程不添加任何化学试剂，从流体源头稳定抑制静电生成，半导体无尘车间严苛高洁净管控标准。

设备内置 2 组 PF-001L-ND3 原厂 CO₂溶解模组，依靠中空纤维膜实现气液渗透交换。超纯水通入中空纤维内腔，高纯二氧化碳由膜外侧透过膜壁溶解进入水体，二氧化碳电离产生微量导电离子，生成碳酸饱和纯水。设备依靠内部精密分配管路系统，动态调节碳酸饱和纯水与主管道超纯水混合比例，持续稳定调控出水电阻率，调节区间覆盖 0.1～15MΩ・cm。整套气液交换流程在密闭洁净模组内部完成，不会引入杂质污染水体；同时可同步脱除水中溶解气体，减少清洗工序气泡残留，有效改善基板水印、针孔、表面斑点等清洗瑕疵。

eFLOW 3AC-P201 标准处理流量区间 10～50L/min，覆盖大流量连续喷淋、多腔体并行清洗工况，承接 2AC-P201 机型流量上限。整机为独立落地一体化机柜结构，机柜内部预留两瓶 CO₂钢瓶安置区域，自带水平调节底座，无需占用清洗设备内部安装空间，针对设备机柜无预留安装位置、无尘车间产线改造、多条支路集中供水场景优势突出。设备全部接液零部件选用高纯洁净耐腐蚀材质，适配半导体无尘车间生产环境；双模组并行运行结构，进水流量大幅波动工况下依旧维持电阻率稳定输出，流体通道经过优化设计，压力损失控制优异，不会加重前端超纯水输送系统负荷。

整机内部无复杂运动构件，结构稳定可靠，故障发生率低，日常运维工作量少。运行仅需外接高纯二氧化碳气源，无需持续投加化学品，杜绝水质二次污染。原厂 SEPAREL 二氧化碳溶解模组提供 5 年质保，使用寿命长久，有效降低产线长期运营成本。

广泛应用于 8/12 英寸晶圆批量湿法清洗、光刻掩模版清洗、晶圆切割后喷淋清洗、大尺寸显示面板湿法擦洗、光伏电池片连续清洗等大流量工艺场景。产线不方便改造设备机柜、多条清洗腔体集中供水、新项目规划独立流体处理单元时，优先选用 eFLOW 3AC-P201，解决纯水静电带来的颗粒吸附、元器件静电损伤问题。

【产品核心参数】产品型号：eFLOW 3AC-P201处理流量：10～50L/min电阻率调控范围：0.1～15MΩ・cm内置模组：PF-001L-ND3 ×2 组安装方式：独立一体化落地机柜式液体接口：Rc1"CO₂气体接口：Rc1/4适用水温：20～30℃（允许区间 10～40℃，禁止结冰）工作水压：0.1～0.3MPa，瞬时耐压 0.5MPaCO₂供气压力：0.05~0.15MPa核心膜元件：DIC 原厂 SEPAREL 中空纤维气液透过模组