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| 品牌 | SIMCO/思美高 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 半导体 |
SIMCO思美高AeroBar 5225S宽幅离子发生器SIMCO思美高AeroBar 5225S宽幅离子发生器
它采用全数字电路控制，支持脉冲DC（Pulsed DC） 和稳态DC两种工作模式，通过手持遥控器即可调整参数，专为半导体制造等超洁净环境的工具内静电消除设计，可在不干扰层流气流的微型环境中提供高效离子化。
AeroBar 5225S定位于半导体工艺设备内部和工作站的独立在线静电消除。该产品支持从工具内部到工作站和洁净室区域的多种应用，适用于微型环境（mini-environments） 和工作站，尤其适合那些不适用强制送风的场所。5225S无需外部控制器即可独立运行，每个离子棒均可单独调整参数，简化了系统集成的复杂度。
AeroBar 5225S采用脉冲DC（Pulsed DC） 工作模式，同时支持稳态DC和待机模式。全数字电路控制实现了更稳定的离子产生和长期离子平衡。每个离子棒的输出电压（0-20 kVDC）和正负极性可分别通过IR手持遥控器（Model 5570） 独立调整，正负输出水平可分开调节。
脉冲DC方式的大范围除电能力是5225S的核心优势。离子生成时间最短可设0.1秒，最长10秒，正负极性可分别设置。
无需外部控制器：所有控制参数集成在离子棒内部，独立运行，简化系统集成
全参数可调：输出电压、正负平衡、脉冲频率、开关时序均可通过IR手持遥控器（Model 5570）独立调整
多种工作模式：支持脉冲DC、稳态DC和待机模式，适应不同静电消除需求
离子电流监测：实时监测离子发射电流，具备预测性维护的阈值报警功能
FMS报警输出：支持设备监控系统的报警信号输出
单晶硅发射器：采用行业最洁净的发射器材料，无掺杂剂或金属污染晶圆的风险，满足ISO 14644-1 Class 1洁净度；也可选钛金属发射器（ISO Class 3）
超低臭氧排放：臭氧产生量＜0.005 ppm
多种长度可选：提供8种标准长度，包括3种专为EFEM（设备前端模块）设计的规格
AeroBar 5225S提供8种标准长度，其中3种为EFEM专用规格。
| 型号 | 长度（英寸） | 长度（厘米） | 适用场景 |
|---|---|---|---|
| 5225S-22 | 22.4 | 56.9 | EFEM专用，紧凑工位 |
| 5225S-28 | 28.4 | 72.1 | EFEM专用，标准工位 |
| 5225S-36 | 35.7 | 90.7 | EFEM专用，宽幅工位 |
| 5225S-44 | 44.4 | 112.8 | 标准长度，中型设备 |
| 5225S-56 | 55.6 | 141.2 | 标准长度，大型设备 |
| 5225S-64 | 64.4 | 163.6 | 标准长度，大型设备 |
| 5225S-76 | 75.5 | 191.8 | 标准长度，超大型设备 |
| 5225S-84 | 84.4 | 214.4 | 标准长度，超大型设备 |
手持遥控器：Model 5570（IR手持遥控器），用于调整离子棒参数。如无按钮操作，遥控器将在15秒后自动进入睡眠模式。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 输入电压 | 24 VAC，50/60 Hz，典型功耗1W |
| 输入电流 | 约40 mA每根离子棒 |
| 输出电压 | 0-20 kVDC，±10%，每个极性可独立调整 |
| 输出电流 | ＜15 μA，内置限流限压电路 |
| 离子发射方式 | 脉冲DC、稳态DC或待机 |
| 离子生成时间 | 最短0.1秒，最长10秒，正负可分别设置 |
| 发射器 | 单晶硅（ISO Class 1）或钛金属（ISO Class 3），可更换 |
| 臭氧产生量 | ＜0.005 ppm |
| 尺寸 | 2.1"H × 1.2"W × 22.4～84.4"L（5.3 × 3.1 × 56.9～214.4 cm） |
| 重量 | 1.13 lb（0.51 kg）@ 22英寸棒体 |
| 行业 | 具体场景 |
|---|---|
| 半导体前道制造 | 晶圆处理过程中的静电消除与颗粒污染控制 |
| 半导体后道封装 | 后端半导体处理设备的在线静电控制 |
| EFEM设备前端模块 | EFEM内部的晶圆静电消除（3种专用长度） |
| 微型环境 | 不适用强制送风的微型环境和工作站 |
| 洁净室 | ISO Class 1及以上洁净环境的静电控制 |
| 需求场景 | 推荐型号 |
|---|---|
| EFEM设备前端模块 | 5225S-22 / 5225S-28 / 5225S-36 |
| 中型工艺设备 | 5225S-44 |
| 大型工艺设备 | 5225S-56 / 5225S-64 |
| 超大型设备 | 5225S-76 / 5225S-84 |
| 需要软件控制和设备集成 | 5225 + 5200-IM6T接口模块 |
| 独立使用，无需设备集成 | 5225S |
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