简要描述：SIMCO思美高AeroBar5645大面积覆盖离子棒低剖面喷嘴可提升性能，并将电离棒整体高度降低至 2.6 英寸（65.3 毫米），适用于空间受限的安装环境。5645 型 MP 电离棒可为半导体后端先进封装和测试环境以及需要快速放电时间、低摆幅电压和精确平衡的前端超洁净应用提供业界的平衡电离性能。

产品定位

SIMCO-ION思美高AeroBar® 5645是一款采用调制脉冲（Modulated Pulse, MP）技术的离子棒，专为半导体后道先进封装与测试以及前道超洁净制程设计。该产品采用单晶硅或钛金属发射器，配合Novx反馈控制系统可实现优于±5V的离子平衡，满足ISO 14644-1 Class 1及Extended ISO Class 1（10nm颗粒）洁净度要求。其MP技术允许离子棒安装在距晶圆仅150mm的位置，是先进制程中的静电消除设备。
SIMCO思美高AeroBar5645大面积覆盖离子棒SIMCO思美高AeroBar5645大面积覆盖离子棒

核心技术：MP调制脉冲 + Novx反馈控制

调制脉冲（MP）技术结合了高频正弦波与调制脉冲，产生高密度正负离子，实现快速静电消除。AeroBar 5645的MP技术可使离子棒安装在距晶圆150mm的极近距离，满足小制程节点对近距控制的要求。

Novx反馈控制系统是5645的核心差异化功能。独立使用时平衡可达±20V或更好，配合Novx System或Novx Inside版本时，平衡可控制在优于±5V，满足半导体行业对超低电压摆幅的严苛要求。此外，离子棒可轻松调整电压、频率和平衡，以适应不同环境敏感度和产品规格需求。

技术规格

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型号与配置

离子棒长度（14种可选）：

AeroBar 5645提供从350mm到2350mm共14种标准长度，完整长度列表如下：

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产品版本：

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配套系统：

发射器喷嘴间距：

• 450mm和600mm长度：50mm间距

• 其他长度：75mm间距

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应用场景

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安装与使用要点

1. 安装距离：得益于MP技术，离子棒可安装在距晶圆仅150mm的位置，满足小制程节点的近距控制需求。

2. 气源要求：使用清洁干燥空气（CDA）或氮气（N₂），供气压力最大45 psi，每喷嘴流量1-3.5 L/min。在弱层流环境下，可选配气动辅助以加速离子输送。

3. 接地要求：所有安装夹和支架必须连接至低阻抗接地。

4. 维护周期：仅需定期清洁外壳和发射器，清洁后无需重新调整离子器。

5. 安全警告：通电时严禁清洁发射器，清洁前务必断开电源。

6. 控制系统：通过MP Control软件集中管理电源和控制，传感器输入、FMS连接、报警、电源和通信均位于离子棒同一端，便于接线和维护。

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