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| 品牌 | SIMCO/思美高 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 半导体 |
SIMCO-ION思美高AeroBar® 5685 SSDC（Steady-State DC）是一款稳态直流电离模式的离子棒，采用Simco-Ion的IsoStat®技术，专为微型环境、层流罩和工作站的静电控制而设计，其独特的空气动力学结构可在不干扰层流气流的前提下对局部区域进行电离。5685离子棒在12-24英寸（约30-61cm） 工作距离的层流气流环境中表现最为理想，适用于对气流扰动极度敏感的洁净场景。
SIMCO思美高AeroBar5685SSDC离子静电消除器SIMCO思美高AeroBar5685SSDC离子静电消除器
IsoStat®技术，本质平衡电离：无需复杂的反馈电路即可维持离子平衡，无需任何校准或调整，通电即用，实现"即插即用"式稳定运行。
稳态直流电离，高离子密度：输出高密度正负离子，静电中和速度快。
不干扰层流气流：独特的空气动力学外形设计，在电离局部区域的同时不破坏层流气流的完整性，适合安装在层流罩内或晶圆处理工位上方。
超洁净材质可选：发射针可选单晶硅或钛金属材质，单晶硅版本满足ISO 14644-1 Class 3洁净室标准（Fed. Std. 209e Class 1等效），适合半导体制造等高洁净要求场景。
多种长度可选：提供四种标准长度，可灵活适配不同尺寸的层流罩和工作站。
快速安装，即插即用：标配两个安装夹，通电后即可自动输出平衡电离，无需复杂调试。
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号 | AeroBar® 5685 SSDC |
| 输入电压 | 24 VAC（±10%），50/60 Hz，3.5W（最大） |
| 输出电压 | 7.5 kV（典型值） |
| 消散时间 | 12英寸时约5秒；24英寸时≤25秒（±1000V至±100V，60fpm层流气流） |
| 离子平衡 | ±50V @ 24英寸（61cm），测量位置为两个相反极性发射针正下方 |
| 电离方式 | 稳态直流（Steady-State DC）+ IsoStat®技术 |
| 发射针材质 | 单晶硅 或 钛金属（可更换，寿命约2-3年） |
| 洁净室等级 | ISO 14644-1 Class 3（单晶硅版本） |
| 长度规格 | 11.4 / 22.4 / 44.4 / 64.4 英寸（29.0 / 56.9 / 112.8 / 163.6 cm） |
| 重量 | 0.56 lb/英尺（约0.256 kg/30.5cm） |
| 工作环境 | 15-35℃，20-60% RH（无结露），层流风速0.3 m/s |
| 安装要求 | 距离接地表面至少6英寸（15.2cm）以保证最佳平衡性能 |
| 认证 | cULus |
参数来源：
AeroBar 5685 SSDC离子棒的型号编码规则为：91-5685 [C/U] - [长度代码] R
C：Titanium（钛金属）发射针
U：Single-crystal Silicon（单晶硅）发射针
长度代码：-11、-22、-44、-64，对应四种标准长度
R：标准后缀
结合两种发射针材质与四种长度，AeroBar 5685 SSDC 共有 8 个标准型号变体。
| 发射针材质 | 长度代码 | 完整型号代码 | 对应长度 |
|---|---|---|---|
| 钛金属 | -11 | 91-5685C-11R | 11.4 英寸 (约 29 cm) |
| 钛金属 | -22 | 91-5685C-22R | 22.4 英寸 (约 57 cm) |
| 钛金属 | -44 | 91-5685C-44R | 44.4 英寸 (约 113 cm) |
| 钛金属 | -64 | 91-5685C-64R | 64.4 英寸 (约 164 cm) |
| 单晶硅 | -11 | 91-5685U-11R | 11.4 英寸 (约 29 cm) |
| 单晶硅 | -22 | 91-5685U-22R | 22.4 英寸 (约 57 cm) |
| 单晶硅 | -44 | 91-5685U-44R | 44.4 英寸 (约 113 cm) |
| 单晶硅 | -64 | 91-5685U-64R | 64.4 英寸 (约 164 cm) |
选型参考：
单晶硅发射针（U） ：满足ISO 14644-1 Class 3洁净室标准，是半导体制造行业的。
钛金属发射针（C） ：适用于硬盘驱动器制造及其他洁净技术应用。
AeroBar 5685需配合24 VAC电源变压器使用，根据所在地区电压标准可选配不同型号：
| 变压器型号 | 输入电压 | 输出 | 适用地区 |
|---|---|---|---|
| 33-1420-01 | 120 VAC ±10%，50 Hz | 24 VAC ±5% @ 500 mA | 北美/日本（美标插头） |
| 33-1430-01 | 230 VAC ±10%，60 Hz | 24 VAC ±5% @ 500 mA | 欧洲（欧标插头） |
| 33-1433-01 | 230 VAC ±10%，60 Hz | 24 VAC ±5% @ 500 mA | 英国（英标插头） |
| 行业 | 具体场景 |
|---|---|
| 半导体制造 | 前道晶圆制造、后道半导体加工中的静电放电和颗粒污染控制 |
| 晶圆处理 | 晶圆传输工位、晶圆检测区域的微型环境静电控制，尤其适合不适合强制送风的场所 |
| 层流罩/洁净工作台 | 层流罩、洁净工作台内的局部静电消除，不干扰层流气流 |
| 微型环境 | 各种微型环境系统、隔离器、手套箱内的静电控制 |
参数来源：
安装位置：离子棒应安装在距离接地表面至少6英寸（15.2cm） 的位置，以保证最佳离子平衡性能。
气流要求：工作区域需具备60fpm（约0.3m/s）的层流气流，气流用于输送离子至被中和物体表面。
发射针维护：建议每2-3个月清洁一次发射针，每2-3年更换一次，具体周期取决于使用环境的洁净度和工况条件。
供电要求：需配备24VAC电源变压器，通电后绿色LED指示灯亮起表示正常工作。
环境要求：工作温度15-35℃，相对湿度20-60%RH（无结露），超出此范围可能影响电离性能
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