简要描述：TRINC高柳TAS‑306BA‑HT200制程静电消除棒
用于去除高温物体（例如无气流的烘干炉）的静电
特征
■无风静电消除
■耐热
■超低功耗

一、产品概述

耐热杆件高温离子发生器，是日本 TRINC 高柳专为半导体高温制程开发的无风条形静电消除器。可耐受最高 200℃环境温度，能够直接安装在半导体烘干炉、固化炉腔体内部，针对高温晶圆、薄膜基材完成静电中和作业。依托无风除静电核心技术，无需引入压缩空气气流，避免炉腔内部气流扰动扬起微颗粒，防止微粒吸附到晶圆、光学膜片表面造成微粒缺陷，解决半导体高温工艺段静电吸附异物的痛点。
TRINC高柳TAS‑306BA‑HT200制程静电消除棒TRINC高柳TAS‑306BA‑HT200制程静电消除棒

✅型号体系

基础型号：TAS‑306 BA‑HT200‑XXXX长度后缀 XXXX 可选：0250、0390、0530、0950、1230、1510

完整型号清单：TAS‑306 BA‑HT200‑0250TAS‑306 BA‑HT200‑0390TAS‑306 BA‑HT200‑0530TAS‑306 BA‑HT200‑0950TAS‑306 BA‑HT200‑1230TAS‑306 BA‑HT200‑1510

一共 6 个长度规格，依据炉腔内部宽度、晶圆载具幅宽来选型。

二、产品核心特征

1. 无风静电消除（半导体无尘制程适用）不需要外接压缩空气供气。依靠离子扩散中和基材表面静电；炉腔内不会产生气流扰动，避免粉尘、微小颗粒飞扬，维持腔体洁净度，降低晶圆、感光膜发生颗粒污染的风险，适配半导体无尘工艺管控要求。

2. 耐高温 200℃炉内直装特殊耐热结构设计，离子棒本体可以直接放置在最高 200℃的烘箱、固化炉腔体内部工作。传统普通离子棒只能在出炉之后降温再除静电；该款可以直接在高温烘烤制程工位原位消除静电，在工件还处于高温状态下完成静电中和，减少出炉后再次吸附粉尘的隐患。

3. 超低功耗可长期连续运行功耗低，适配半导体产线 7×24 小时不间断连续生产，可长期置于炉内持续工作，无需频繁启停。

三、半导体及相关应用场景

• 半导体薄膜制程：光刻胶固化烘烤工序，炉内消除光刻胶膜层静电，防止静电吸附颗粒造成晶圆不良；

• FPD / 光学半导体：偏光片、功能膜高温固化炉内部除静电；

• 化学品制药：医药薄膜高温烘干制程；

• 印刷涂布行业：功能性涂层高温烘烤固化工位。

重点使用场景：无气流烘干炉、真空烘箱、固化炉腔体内部，针对高温状态下的半导体基材进行静电消除，规避静电带来的微粒吸附缺陷。

四、选型要点

1. 使用环境温度请勿超过 200℃，严禁超高温工况使用；

2. 根据炉腔内部晶圆 / 基板的实际幅宽，挑选适配棒体长度，尽量完整覆盖工件宽度；

3. 无风结构，该型号不带喷气吹扫功能，只用于静电中和，不用于吹除表面颗粒。

我司优势代理品牌：坂口电热 SAKAGUCHI、EYE岩崎、SEN日森、CCS晰写速、NPM日脉、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克、SONIC索尼克:、SANKO三高、TOKI东机产业、NEWKON新光、HAYASHI林时计、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山电机、OHKURA大仓、UILVAC爱发科、TORAY东丽、EBARA荏原、ANALYZER第一热研、NFK南国工业株式会社、MATSUO松尾、NIKKATO日陶、HEIDON新东科学、JIKCO吉高、0TSUKA大塚电子、ITOH伊藤、日本MTL、THOMAS、kakuhunter写真化学、WATSON沃森、RIYYO理阳、ESSGES宜格斯、ATAGO爱拓、PFERD马圈、TEMITOP乐控TSUBAKI椿本、MIYUKI 美幸辉