




产品型号
厂商性质
更新时间
浏览次数
相关文章
| 品牌 | MKS/美国 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产品种类 | 质量式 | 介质分类 | 气体 |
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 半导体 |
MKS G 系列是面向半导体、光伏、等离子工艺的经济高效型热式气体质量流量控制器产品线,共分5 个子系列、合计 47 款产品。采用热式传感 + 新一代数字化控制算法,实现快速、可重复的流量闭环控制;数字标定保证校准气体下精度达设定值 ±1%,典型响应时间约 500ms,适配短流程工艺;沿用行业标准 3 英寸安装底座,可直接替换老款 1179A 系列而不改动气路管路;同时兼容模拟与 EtherCAT、PROFINET、DeviceNet、Profibus、RS485 等主流数字总线,兼顾新装机与老设备改造。MKS
MKS 美国 G‑Series G 系列质量流量控制器MKS 美国 G‑Series G 系列质量流量控制器
GE50A|弹性体密封式 5‑50000 sccm(25 款)橡胶弹性密封圈,通用基础主力型号;适配 N₂、Ar、He、O₂、H₂等惰性、弱反应工艺气体;性价比高、应用。
GM50A / GM51A|金属密封式 5‑50000 sccm(17 款)全金属硬密封结构,无橡胶渗透路径,外漏极低;适配 Cl₂、BCl₃等卤素腐蚀性气体,高纯高洁净半导体工艺优先选用。
GV50A|弹性体密封式 5‑50000 sccm,带截止阀(1 款)在原 MFC 阀体上集成一路独立截止阀,实现双重关断,适合对气路安全切断有额外要求的工位。
GM100A|金属密封式 50‑100 slm(1 款)大流量金属密封机型,兼顾大流量与耐蚀低漏率,适配大流量腐蚀性工艺气体。
GE250A / GE300A|弹性体密封式 100‑300 slm(3 款)超大流量弹性密封版本,用于大流量惰性、弱腐蚀气体通路。
数字化控制,多气体多量程切换内置多组气体标定参数,现场即可切换气体与量程,无需返厂重新标定;校准气体下精度 ±1% 设定值,提高机台间工艺匹配一致性(Chamber Matching)。
快速响应,提升工艺节拍典型响应时间约500ms(GM50A 实时反馈控制约 600‑800ms 区间);流量稳定速度快,缩短工艺等待时间,适配短流程、快速切换配方。
丰富通讯,兼容各类控制系统模拟信号:0‑5VDC、4‑20mA;数字通讯:EtherCAT、PROFINET、DeviceNet、Profibus、RS485;并内置 Modbus 辅助通讯(PROFINET 版除外);I/O 设计可直接替代早期 RS485/Profibus/DeviceNet 旧型号,机身自带按键与 LED 状态指示,本地调零便捷。
标准 3 英寸底座,免改管路统一 3 英寸安装基准尺寸,可直接替换同底座旧机型,无需重新开孔改管路;管路接头可选 4‑VCR、卡套等,金属密封版适配高纯气路。
高精度高稳定性指标
控制范围 2%‑100% FS;精度 20‑100% FS 为设定值 ±1%、2‑20% FS 为满量程 ±0.2%重复性 ±0.3% 读数;分辨率 0.1% FS爆破压力 1500 psig;接液材质 316L 不锈钢零位温度系数 < 0.05% FS/℃,跨度温度系数 < 0.08% 读数 /℃,入口压力系数 < 0.02% 读数 /psi,长周期运行漂移低
嵌入式自诊断功能内置诊断软件,无需拆下 MFC 即可在线检查设备功能,减少 "更换" 造成的机台停机,提升设备综合利用率。
表格
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 量程范围 | 5‑50000 sccm(N₂等效) |
| 控制范围 | 2%‑100%FS |
| 典型精度 | ±1% 设定值(20‑100% FS);±0.2% FS(2‑20% FS) |
| 重复性 | ±0.3% 读数 |
| 分辨率 | 0.1%FS |
| 典型响应时间 | 约 500ms |
| 爆破压力 | 1500 psig |
| 接液材质 | 316L 不锈钢 |
| 密封形式 | GE50A 弹性密封 / GM50A 金属密封(Teflon 阀座) |
| 通讯方式 | 模拟 0‑5V/4‑20mA;EtherCAT、PROFINET、DeviceNet、Profibus、RS485、Modbus |
表格
| 项目 | GE50A(弹性密封) | GM50A(金属密封) |
|---|---|---|
| 密封形式 | 橡胶弹性密封圈 | 全金属硬密封(Teflon 阀座) |
| 适用气体 | N₂、Ar、He、O₂、H₂等惰性、弱反应气体 | 高纯气体、Cl₂、BCl₃等卤素腐蚀性气体 |
| 洁净等级 | 普通高纯工况 | 半导体高洁净、真空工艺优先 |
| 采购成本 | 性价比更高 | 价格偏高、耐化学腐蚀更强 |
光伏扩散炉管与 PECVD 镀膜设备;半导体辅助气路与工艺气体控制;等离子清洗、气相沉积设备;实验室 CVD 气相工艺;旧机台原有 1179A 系列 MFC 升级替换改造项目。