简要描述：RIX瑞顾克斯L40半导体旋转接头旋转联轴器
晶圆加压用气源
晶圆用真空吸盘（吸附式）
真空破碎空气供应
旋转台的冷却水供应
供应纯净水、化学品和浆料。
*根据具体要求，可能需要用水。

产品概述

日本 RIX（リックス株式会社，瑞顾克斯）L40 系列是专为半导体制造设备开发的单端口旋转接头，玉崎代理，现货库存。产品用于固定管路向旋转工作台输送介质，在旋转状态下实现流体持续供给。内部接液部件采用非金属材质，抑制金属离子析出，满足晶圆制程超高洁净度标准，广泛配套 CMP 化学机械抛光机、晶圆真空卡盘、旋转清洗平台等半导体核心工艺设备.。
RIX瑞顾克斯L40半导体旋转接头旋转联轴器RIX瑞顾克斯L40半导体旋转接头旋转联轴器

核心产品特点

1. 单通道紧凑中空结构单端口流路设计，整体体积小巧，便于集成在半导体设备狭小的主轴空间内；本体预留中空通道，可搭配滑环同步组装，节省设备内部布局空间。

2. 低金属离子析出，耐化学腐蚀流路接液件全部采用氟化树脂非金属材质，大幅降低流体中金属离子溶出，适配各类酸碱药液、CMP 研磨浆料，不会造成晶圆污染，符合半导体洁净车间工艺要求。

3. 陶瓷精密密封结构采用陶瓷面机械密封，耐磨抗颗粒，研磨浆料中的微小颗粒不易损伤密封面；标准工况泄漏量极低，摩擦生热小，产尘少，保障洁净车间环境稳定。

4. 多介质兼容能力强可输送真空、干燥压缩空气、超纯水、半导体化学药液、CMP 研磨浆料；浆料、强腐蚀药液工况可单独定制版本。

5. 安装方式灵活支持水平、垂直多方位安装，适配旋转主轴、晶圆卡盘多种设备结构，非标转速、接口螺纹规格支持定制开发。

详细技术参数

• 端口数量：1 端口

• 使用压力范围：-100kPa ~ 1MPa

• 标准最高转速：600min⁻¹；最高可定制至 3000min⁻¹（需单独洽谈）

• 适用流体：真空、压缩空气、超纯水、化学药液、研磨浆料（浆料 / 强腐蚀药液需咨询确认）

• 主体外壳：不锈钢；接液部位：氟化树脂非金属材质

• 使用环境：半导体洁净车间

型号说明

L40 为系列母型号，无大量独立数字后缀子型号，依靠接口螺纹、介质类型、转速分为 3 类标准版本：

1. L40 标准型：超纯水、化学药液输送，通用半导体湿法工艺

2. L40 真空专用型：晶圆真空卡盘负压吸附工况

3. L40 CMP 浆料加强型：耐研磨颗粒，CMP 抛光设备专用螺纹可选 G 螺纹、NPT、公制螺纹，可根据客户设备需求定制。

典型应用场景

• CMP 化学机械抛光设备：抛光浆料供给

• 晶圆真空卡盘：真空吸附管路

• 晶圆旋转清洗设备：超纯水、清洗药液输送

• 半导体旋转冷却工作台、各类旋转式流体输送单元