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| 品牌 | HORIBA/堀场 | 价格区间 | 1万-3万 |
|---|---|---|---|
| 产品种类 | 质量式 | 介质分类 | 气体 |
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 半导体,机械设备 |
SEF‑Z500X 系列为无阀热式质量流量计,与 SEC‑Z500X 控制器共用传感本体,内部没有调节阀,仅完成气体质量流量测量、数据输出。搭载 MG 多气体多量程功能,软件端可直接切换气体种类与满量程规格,无需拆卸管路。采用多项式线性补偿算法,测量精度稳定。全金属流路 SUS316L 电解超净抛光,氦检漏指标优异。多通讯协议可选,适合气路监测、旁路流量采集、闭环系统流量反馈、产线比对校验场景,常与外部调节阀搭配使用。
MG 多气体多量程功能,不拆管路即可切换气体参数与满量程,降低备件库存,缩短工艺换型调试时间。
无阀结构,只做流量测量采集,不具备流量调节关断功能,适配旁路监测、比对校验、流量反馈采集场景。
多项式线性补偿,25‑100% FS 精度 ±1.0% S.P;≤25% FS 精度 ±0.25% FS,全测量区间数据稳定。
流量测量范围 0‑100% FS,小流量信号解析能力强,可捕捉低流量段真实流量变化。
多协议通讯兼容,模拟、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选,兼顾老设备改造以及新建设备。
全金属流路电解超净抛光处理,氦检漏性能优异,微粒析出少,适配高纯、部分腐蚀性半导体工艺气体。
内置运行数据存储,记录压力温度极值、累计流量,方便流量统计、设备状态评估。
微流量测量机型,MR‑MG #R01‑#R04;氮气当量 5‑500SCCM,微量气路监测、ALD、离子注入回路流量采集。
中小流量通用测量机型,MR‑MG #R03‑#R06;氮气当量 500SCCM‑10SLM,刻蚀、CVD 旁路流量监测。
中流量测量机型,MR‑MG #R05‑#R08;氮气当量 3‑30SLM,工艺气配比回路流量采集。
中大流量测量机型,MR‑MG #R07‑#R10;氮气当量 10‑100SLM,腔体吹扫回路流量监测。
大流量测量机型,MR‑MG #R09‑#R11;氮气当量 100‑200SLM,大载气气路流量采集校验。
超大流量测量机型,MR‑MG #R11‑#R12;氮气当量 200‑500SLM,超大腔体气路流量监测。
流量依靠 MR‑MG 档位 #R01‑#R12 划分量程;硬件流路一致,差异为满量程规格;对应带阀控制版本为 SEC‑Z514MGX~SEC‑Z564MGX。
测量原理:热式毛细管传感测量区间:0‑100% FS接液材质:SUS316L EP 电解抛光、钴镍合金阀结构:无内置控制阀通讯接口:模拟 0‑5V、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选供电:24VDC耐压:1000kPa (G);氦检漏≤5×10⁻¹²Pa・m³/s精度:±1.0% S.P(>25% FS);±0.25% FS(≤25% FS)重复性:≤±0.2% FS工作环境:5‑50℃,推荐 15‑45℃,20‑80% RH 无凝露存储温度:0‑80℃状态记录:压力温度极值、超长、总运行时长、累计流量
半导体气路旁路流量监测、工艺回路流量比对校验;CVD、刻蚀设备流量采集反馈;第三代半导体;MEMS 器件制造;光伏设备气路监测;特种气体实验平台流量计量;存量产线增加流量监测点位改造。
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