新品！DIC 迪爱生 EF-AG3 微型脱气模组，搞定光刻胶微气泡难题

伴随半导体光刻工艺对良率管控持续提标，光刻胶供胶管路里的微米级气泡、溶解气体，极易引发涂布针孔、膜厚波动、图形缺陷，是光刻工序常见的良率隐患。原有微型脱气部件在光刻胶这类含表面活性剂药液长期运行时，容易出现膜层浸润堵塞、脱气效率衰减、压损偏大等问题，狭小机台内部也存在集成困难的情况。我司上新升级 DIC 迪爱生 EF-AG3 微型脱气模组，依托 SEPAREL® SS 中空纤维脱气膜技术，专为光刻胶、感光类电子药液在线脱气开发。

EF-AG3 采用外灌流结构，药液走膜丝外侧，真空作用于膜丝内腔，气体可选择性透过膜层、阻隔液体，能够将光刻胶中溶解氧脱除至 ppb 等级，稳定消除微气泡。升级后的 SS 致密皮层配方针对光刻胶体系优化，有效抑制药液浸润渗透，延缓膜面堵塞，相比前代微型脱气模组，长期运行稳定性更好，维护周期更长。

产品优势亮点✅ 微型紧凑机身，体积小巧，适配涂布机、喷胶单元、工艺验证台狭小安装空间，改造便捷✅ 低压损设计，不会干扰精密计量泵供胶，保障光刻胶流量稳定，降低膜厚偏差风险✅ 药液接触材质耐光刻溶剂、显影液、稀释剂，兼容正胶、负胶、厚光刻胶等多种类型✅ 工况适配：工作温度 5~45℃，最高耐压 0.2MPa，匹配光刻产线常规供胶工况✅ 标准小型螺纹接口，管路改造简单，新旧设备都方便上机验证

适用场景

1. 半导体光刻旋涂工序：光刻胶在线脱气，改善涂布品质，减少针孔、断胶缺陷

2. 各类感光药液：显影液、冲洗液、光刻稀释液脱气处理

3. 设备集成：晶圆涂布设备、微喷胶系统、研发小样光刻工艺平台

4. 其他精密微量光学药液、电子试剂循环管路脱气

选型 & 使用提醒EF-AG3 主打中小微量流量支路，适合旋涂机支路、研发小样管路；大流量集中供胶场景可选用 DIC EF-G 系列脱气模组。运行压力不可超 0.2MPa，介质温度控制在 5~45℃；建议前端增设过滤器，减少杂质附着膜面，延长模组寿命；模组需要配套稳定真空负压源使用。

供货：DIC 迪爱生 EF-AG3 升级款可提供样品上机测试，深圳仓现货直发，助力产线快速导入，改善光刻气泡缺陷，提升良率。