更新时间:2026-08-27
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V‑TEX 是日本专业超高真空阀门厂商,真空阀是真空系统里的开关部件,在负压环境下实现管路通断、腔体隔离、压力调节,用来隔离大气、隔绝不同工艺腔、调节抽气流量,广泛用于半导体、镀膜、FPD 面板设备。
依靠气动驱动,通过Rollcam 滚凸轮机构带动阀板运动,关闭时压紧密封件实现真空密封;打开导通气流。
矩形门阀:直线升降,实现晶圆腔室之间的物料传输通道开关。‑ 摆阀:阀瓣旋转摆动,安装在腔体与真空泵之间,可做通断或者节流调压。依靠金属波纹管隔绝大气,驱动机构不会向真空内部释放粉尘颗粒,满足半导体洁净要求。
1.矩形门阀 / 狭缝阀 Slit Valve用于晶圆传输通道,隔离工艺腔与传输腔,适配 8 寸、12 寸晶圆,半导体机台常用。Rollcam 结构,低震动、低发尘。
2.Penduroll 摆阀系列‑IPV:两位式,全开 / 全关,仅做管路隔断;‑3PV:三位置,全关‑固定节流‑全开,实现固定档位调压;‑APC:数控摆阀,搭配控制器,连续闭环调节真空腔体压力,CVD/PVD 蚀刻设备用来稳定工艺气压。
3.插板阀 Gate Valve大口径直通式真空隔断,用于主抽气管路,大腔体隔离。
1.Rollcam 滚凸轮结构,启闭冲击小,低振动、低发尘,颗粒污染少,适配半导体洁净工艺。2. 漏率性能优异,满足高真空、超高真空工况。3. 波纹管密封结构,驱动部件不暴露真空内部,减少污染。4. 寿命长,标准规格可达 50 万次以上启闭循环。5. 分为普通气动、三位置、闭环电控调压多种方案,满足隔断、节流、精密稳压不同需求。
半导体蚀刻、PVD 溅射、CVD、ALD、离子注入、真空镀膜、面板 OLED 设备、科研真空腔体,实现腔体隔离、晶圆传输门、排气压力调节。