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MKS美国P系列高性能质量流量控制器半导体用

简要描述:MKS美国P系列高性能质量流量控制器半导体用新一代多气体/多量程质量流量控制器,旨在满足对气体流量控制精度和响应速度的关键要求,同时最大限度地减少质量流量控制器的库存需求。P4B MFC的多气体/多量程功能基于预先存储在内存中的气体参数,可为用户选择的气体提供1%的设定点精度,满量程范围从5 sccm到50 slm。

基础信息

产品型号

P系列-

厂商性质

经销商

更新时间

2026-09-16

浏览次数

76
详细介绍
品牌MKS/美国价格区间面议
产品种类质量式介质分类气体
产地类别进口应用领域半导体

产品概述

P 系列是 MKS 面向半导体关键工艺推出的高性能金属密封质量流量控制器 / 流量计(MFC/MFM)产品线,核心型号为P4B、P9B。采用热式传感 + 新一代数字控制电子,具备多气体、多量程在线切换能力,无需返厂重新标定;全金属密封结构消除橡胶 O 圈带来的气体渗透与外漏风险,专为刻蚀、薄膜沉积等工艺的腐蚀性、高纯工艺气体设计,属于半导体气路的 "黄金标准" 级流量控制部件。
MKS美国P系列高性能质量流量控制器半导体用MKS美国P系列高性能质量流量控制器半导体用

主要型号

  1. P4B(主力机型)1.125 英寸阀体,量程 5‑50000 sccm(50 slm,N₂等效);提供 MFC 控制阀版本与 MFM 纯测量版本,是 P 系列出货量最大的型号。

  2. P9B(大流量版本)更大阀体规格,面向更高流量的工艺气路需求。

  3. MFM 流量计版本不带调节阀,仅做多气体多量程流量测量,用于工艺气路监测。

产品核心特点

  1. 全金属密封,适配腐蚀性高纯气体外部密封全部采用金属结构,无橡胶渗透路径,外漏极低;可稳定控制 Cl₂、HCl、SiH₄、NF₃、BCl₃、WF₆等卤素类、自燃类腐蚀性特种工艺气体;接液本体采用 316L S.S. VAR 半导体级不锈钢,搭配 Elgiloy、KM‑45 合金组件,阀座 PTFE 材质,表面光洁度达 10µ inch Ra,洁净度高,适合要求严苛的晶圆工艺。

  2. 多气体多量程现场切换内置多组气体标定参数与量程配置,用户可在现场直接切换气体种类与流量量程,无需返厂标定,减少设备停机时间,灵活适配工艺配方变化。

  3. 快速响应,适配短工艺步骤数字控制算法加持,流量稳定时间小于 750ms;在需要快速切换、短时程的刻蚀 / 沉积步骤中响应快,提高工艺节拍与一致性。

  4. 高精度控制性能20‑100% 满量程精度为设定值的 ±1%,2‑20% 满量程精度为满量程的 ±0.2%;分辨率 0.1% 满量程;工作温度 10‑50℃,附带 ±2℃温度精度,保证长周期运行重复性。

  5. 丰富通讯接口支持模拟信号 0‑5VDC、4‑20mA;数字通讯 RS485、DeviceNet、Profibus、EtherCAT;标准 3 英寸安装底座,可直接替换同底座旧机型,兼容主流 PLC 与机台控制系统。

规格参数(P4B)

  • 量程范围:5‑50000 sccm(N₂等效)

  • 精度:±1% 设定值(20‑100% FS);±0.2% FS(2‑20% FS)

  • 分辨率:0.1% FS

  • 稳定时间:<750ms

  • 阀关闭泄漏率:<1.0% FS(25 psig 入口对大气)

  • 接液材质:316L S.S. VAR、316 S.S.、Elgiloy、KM‑45

  • 阀座材质:PTFE(Teflon)

  • 表面光洁度:10µ inch Ra

  • 工作温度:10‑50℃

  • 整机重量:<1.4kg

  • 密封形式:全金属密封(可选 C‑Seal/W‑Seal 面密封接头)

适用行业场景

半导体晶圆刻蚀(ETCH)、PECVD/ALD 薄膜沉积、扩散炉管工艺;光伏电池片镀膜;平板显示制造;实验室高纯气体流量控制;半导体设备 OEM 气路集成与旧机型升级替换。

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