MC‑5000L 系列为数字型热式质量流量控制器，采用DeviceNet总线通讯，压电驱动阀体，金金属密封结构。氮气当量量程覆盖 10SCCM‑200SLM，死体积小，气路置换快，流路洁净处理，适配高纯以及部分腐蚀性工艺气体，多用于存量半导体产线改造，适配搭载 DeviceNet 总线的老款设备系统。主流型号：MC‑5100L、MC‑5200L、MC‑5250L、MC‑5450L、MC‑5460L、MC‑5470L。

产品特点

DeviceNet 数字总线通讯，遵循通用设备协议，兼容市面多数旧款半导体设备，方便老产线组网集成。
压电式驱动阀体，阀执行部件与工艺气体隔离，腔体死体积小，气体置换速度快。
金金属密封，氦检泄漏率低，满足半导体超净气路工况。
自带环境温度补偿，环境温度发生波动，流量输出依旧稳定。
测量精度稳定，中小量程 25‑100% FS 精度 ±1.0% S.P，2‑25% FS 精度 ±0.25% FS；大量程档位 2‑35% FS 精度 ±0.35% FS，重复性≤±0.2‑0.5% FS。
内置微处理单元，支持零点校准、累计流量统计、参数本地存储，便于现场调试维护。
金属壳体搭配滤波结构，抗电磁干扰性能好。
标准常闭阀结构，断电自动切断气路，匹配设备安全逻辑，也可选用常开阀体版本。

基础性能参数

测量原理：热式传感控制区间：2‑100% FS阀类型：常闭阀（可定制常开）接液材质：SUS316L、PCTFE、PTFE，Au 金密封件全阶响应：1s耐压：1MPa (G)氦检漏：1×10⁻¹¹Pa・m³/sec通讯：DeviceNet供电：24VDC工作环境：5‑50℃，20‑80% RH 无凝露

各型号区分

MC‑5100L：10‑5000SCCM，DeviceNetMC‑5200L：~20SLM，DeviceNetMC‑5250L：~50SLM，DeviceNetMC‑5450L：~50SLM，DeviceNetMC‑5460L：~150SLM，DeviceNetMC‑5470L：~200SLM，DeviceNet

同量程后缀 C 为 EtherCAT 版本，后缀 L 为 DeviceNet 版本。

应用场景

半导体 CVD、干法刻蚀、薄膜沉积工艺气体控制；第三代半导体；MEMS 器件制造；特种气体实验平台；DeviceNet 总线旧产线流量点位改造替换。
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