简要描述：HORIBA堀场SEF‑Z544MGX数字质量模块流量计阀热式质量流量计，无内置调节阀门，仅实现气体质量流量测量与数据输出。搭载 MG 多气体多量程功能，软件端可切换气体种类与满量程规格，无需拆卸管路。中大流量段测量数据稳定，通讯支持模拟量

产品简介

SEF‑Z500X 系列为无阀热式质量流量计，与 SEC‑Z500X 控制器共用传感本体，内部没有调节阀，仅完成气体质量流量测量、数据输出。搭载 MG 多气体多量程功能，软件端可直接切换气体种类与满量程规格，无需拆卸管路。采用多项式线性补偿算法，测量精度稳定。全金属流路 SUS316L 电解超净抛光，氦检漏指标优异。多通讯协议可选，适合气路监测、旁路流量采集、闭环系统流量反馈、产线比对校验场景，常与外部调节阀搭配使用。

产品特点

1. MG 多气体多量程功能，不拆管路即可切换气体参数与满量程，降低备件库存，缩短工艺换型调试时间。

2. 无阀结构，只做流量测量采集，不具备流量调节关断功能，适配旁路监测、比对校验、流量反馈采集场景。

3. 多项式线性补偿，25‑100% FS 精度 ±1.0% S.P；≤25% FS 精度 ±0.25% FS，全测量区间数据稳定。

4. 流量测量范围 0‑100% FS，小流量信号解析能力强，可捕捉低流量段真实流量变化。

5. 多协议通讯兼容，模拟、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选，兼顾老设备改造以及新建设备。

6. 全金属流路电解超净抛光处理，氦检漏性能优异，微粒析出少，适配高纯、部分腐蚀性半导体工艺气体。

7. 内置运行数据存储，记录压力温度极值、累计流量，方便流量统计、设备状态评估。

各基础机型区分

SEF‑Z514MGX

微流量测量机型，MR‑MG #R01‑#R04；氮气当量 5‑500SCCM，微量气路监测、ALD、离子注入回路流量采集。

SEF‑Z524MGX

中小流量通用测量机型，MR‑MG #R03‑#R06；氮气当量 500SCCM‑10SLM，刻蚀、CVD 旁路流量监测。

SEF‑Z534MGX

中流量测量机型，MR‑MG #R05‑#R08；氮气当量 3‑30SLM，工艺气配比回路流量采集。

SEF‑Z544MGX

中大流量测量机型，MR‑MG #R07‑#R10；氮气当量 10‑100SLM，腔体吹扫回路流量监测。

SEF‑Z554MGX

大流量测量机型，MR‑MG #R09‑#R11；氮气当量 100‑200SLM，大载气气路流量采集校验。

SEF‑Z564MGX

超大流量测量机型，MR‑MG #R11‑#R12；氮气当量 200‑500SLM，超大腔体气路流量监测。

流量依靠 MR‑MG 档位 #R01‑#R12 划分量程；硬件流路一致，差异为满量程规格；对应带阀控制版本为 SEC‑Z514MGX~SEC‑Z564MGX。

通用技术参数

测量原理：热式毛细管传感测量区间：0‑100% FS接液材质：SUS316L EP 电解抛光、钴镍合金阀结构：无内置控制阀通讯接口：模拟 0‑5V、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选供电：24VDC耐压：1000kPa (G)；氦检漏≤5×10⁻¹²Pa・m³/s精度：±1.0% S.P（＞25% FS）；±0.25% FS（≤25% FS）重复性：≤±0.2% FS工作环境：5‑50℃，推荐 15‑45℃，20‑80% RH 无凝露存储温度：0‑80℃状态记录：压力温度极值、超长、总运行时长、累计流量

应用场景

半导体气路旁路流量监测、工艺回路流量比对校验；CVD、刻蚀设备流量采集反馈；第三代半导体；MEMS 器件制造；光伏设备气路监测；特种气体实验平台流量计量；存量产线增加流量监测点位改造。

HORIBA堀场SEF‑Z544MGX数字质量模块流量计HORIBA堀场SEF‑Z544MGX数字质量模块流量计

我司优势代理品牌：坂口电热 SAKAGUCHI、EYE岩崎、SEN日森、CCS晰写速、NPM日脉、REVOX莱宝克斯、SERIC索莱克、SONIC索尼克:、SANKO三高、TOKI东机产业、NEWKON新光、HAYASHI林时计、SIBATA柴田、SUGIYAMA杉山电机、OHKURA大仓、UILVAC爱发科、TORAY东丽、EBARA荏原、ANALYZER第一热研、NFK南国工业株式会社、MATSUO松尾、NIKKATO日陶、HEIDON新东科学、JIKCO吉高、0TSUKA大塚电子、ITOH伊藤、日本MTL、THOMAS、kakuhunter写真化学、WATSON沃森、RIYYO理阳、ESSGES宜格斯、ATAGO爱拓、PFERD马圈、TEMITOP乐控TSUBAKI椿本、MIYUKI 美幸辉