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| 品牌 | HORIBA/堀场 | 价格区间 | 1万-3万 |
|---|---|---|---|
| 产品种类 | 质量式 | 介质分类 | 气体 |
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 半导体,机械设备 |
SEC‑Z500X 系列为全数字热式 MFC，SEF‑Z500X 为不带控制阀的流量测量机型。搭载 MG 多气体多量程功能，可在气路不拆卸的条件下，通过软件切换气体种类与满量程规格，减少备件种类。内置可变 PID 系统，任意设定点之间全量程响应控制在 1 秒以内。采用多项式线性补偿，大流量区间精度可达 ±1.0% S.P。全金属流路 SUS316L 电解超净抛光，氦检漏性能优异，流量覆盖 5SCCM‑500SLM 氮气当量。多通讯协议可选，广泛用于半导体、光伏、特种气体工艺，是存量产线替换常用机型。
MG 多气体多量程功能，无需拆管拆设备，软件即可切换气体类型、修改满量程，降低备件库存，缩减换型调试工时。
可变 PID 控制系统，随流量、气体规格自动优化调节参数，任意设定点切换全量程响应≤1s。
多项式线性补偿算法，25‑100% FS 精度 ±1.0% S.P；≤25% FS 精度 ±0.25% FS，全流量区间控制表现稳定。
压电陶瓷执行阀，动作速度快，关断泄漏指标好，适配刻蚀、沉积各类量产工艺。
完整通讯兼容，模拟量、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选，适配老旧设备改造与新建设备。
全金属流路电解超净抛光，氦检漏性能优异，微粒析出低，适配高纯及部分腐蚀性特种工艺气体。
内置运行数据存储，记录阀门动作次数、压力温度极值、累计流量，便于设备寿命评估与异常预判。
微流量机型，氮气当量 5‑500SCCM，适配微量载气、ALD、离子注入供气。
中小流量通用机型，500SCCM‑10SLM，刻蚀、薄膜沉积主流选用。
中流量机型，10‑30SLM，载气配比、中等腔体工艺使用。
中大流量机型，30‑100SLM，腔体吹扫、大流量载气供给。
大流量机型，100‑200SLM，大载气、大腔体工艺。
超大流量机型，200‑500SLM，大流量吹扫、载气供给场景。
SEF‑Z514MGX/SEF‑Z524MGX/SEF‑Z534MGX/SEF‑Z544MGX/SEF‑Z554MGX/SEF‑Z564MGX 为对应流量计版本，无控制阀，只做流量采集监测。流量依靠 MR‑MG 档位 #R01‑#12 划分量程，硬件流路一致，主要差异为满量程规格。
测量原理：热式毛细管传感控制区间：2‑100% FS（SEC 控制器）；SEF 测量区间 0‑100% FS接液材质：SUS316L EP 电解抛光、钴镍合金阀结构：压电常闭阀（SEC 系列；SEF 无阀）通讯接口：模拟 0‑5V、RS‑485、DeviceNet、EtherCAT 可选供电：24VDC耐压：1000kPa (G)；氦检漏≤5×10⁻¹²Pa・m³/s全阶响应时间：≤1s精度：±1.0% S.P（>25% FS）；±0.25% FS（≤25% FS）重复性：≤±0.2% FS工作环境：5‑50℃，推荐 15‑45℃，20‑80% RH 无凝露存储温度：0‑80℃状态记录：阀门动作计数、压力温度极值、超长、总运行时长、累计流量
半导体干法刻蚀、CVD 薄膜沉积、ALD 原子层沉积；腔体吹扫；第三代半导体；MEMS 器件制造；光伏设备；特种气体实验平台；存量产线替换改造。
HORIBA 堀场SEC‑Z524MGX数字质量流量计HORIBA 堀场SEC‑Z524MGX数字质量流量计
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